製品

炭化タンタルコーティング

VeTek Semiconductor は、半導体業界向けの炭化タンタル コーティング材料の大手メーカーです。当社の主な製品には、CVD 炭化タンタル コーティング部品、SiC 結晶成長または半導体エピタキシー プロセス用の焼結 TaC コーティング部品が含まれます。 ISO9001 に合格した VeTek Semiconductor は、品質を適切に管理しています。 VeTek Semiconductor は、反復技術の継続的な研究開発を通じて、炭化タンタル コーティング業界のイノベーターになることに専念しています。


主な製品は、TaCコートガイドリング, CVD TaCコーティングされた3枚花びらガイドリング, 炭化タンタル TaC コーティング ハーフムーン, CVD TaCコーティング 遊星SiCエピタキシャルサセプタ, 炭化タンタルコーティングリング, 炭化タンタル被覆多孔質グラファイト, TaCコーティング回転サセプタ, 炭化タンタルリング, TaCコーティング回転板, TaC コーティングされたウェハサセプタ, TaC コーティングされたディフレクター リング, CVD TaC コーティング カバー, TaCコーティングチャックなど、純度は5ppm以下であり、顧客の要求を満たすことができます。


TaC コーティング グラファイトは、独自の化学気相成長 (CVD) プロセスにより、高純度グラファイト基板の表面を炭化タンタルの微細層でコーティングすることによって作成されます。利点は下の写真に示されています。


Excellent properties of TaC coating graphite


炭化タンタル (TaC) コーティングは、最大 3880°C という高い融点、優れた機械的強度、硬度、および熱衝撃に対する耐性により注目を集めており、より高い温度要件が必要な化合物半導体エピタキシー プロセスに代わる魅力的な代替品となっています。 Aixtron MOCVDシステムやLPE SiCエピタキシープロセスなど、PVT法によるSiC結晶成長プロセスにも幅広く応用できます。


主な特長:

 ●温度安定性

 ●超高純度

 ●H2、NH3、SiH4、Siに対する耐性

 ●熱ストックに対する耐性

 ●グラファイトとの接着力が強い

 ●絶縁保護コーティングの適用範囲

 直径750mmまでのサイズ(このサイズに達するのは中国の唯一のメーカーです)


アプリケーション:

 ●ウェーハキャリア

 ●誘導加熱サセプター

 ●抵抗発熱体

 ●サテライトディスク

 ●シャワーヘッド

 ●ガイドリング

 ●LEDエピレシーバー

 ●インジェクションノズル

 ●マスキングリング

 ●遮熱板


微細断面に炭化タンタル(TaC)コーティング:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


VeTek Semiconductor タンタルカーバイドコーティングのパラメータ:

TaCコーティングの物性
密度 14.3 (g/cm3)
比放射率 0.3
熱膨張係数 6.3 10-6/K
硬度(HK) 2000 香港
抵抗 1×10-5オーム*センチメートル
熱安定性 <2500℃
グラファイトのサイズ変更 -10~-20μm
膜厚 ≥20um 代表値 (35um±10um)


TaCコーティングEDXデータ

EDX data of TaC coating


TaCコーティングの結晶構造データ:

要素 原子パーセント
ポイント1 ポイント2 ポイント3 平均
C K 52.10 57.41 52.37 53.96
彼ら 47.90 42.59 47.63 46.04


TaC Coating Chuck TaCコーティングチャック TaC Coating Planetary Disk TaCコーティング遊星ディスク
TaCコートプレート
TaC Coating Rotation Plate TaCコーティング回転板 TaCコーティング受け CVD TaC coating Cover CVD TaCコーティング カバー CVD TaC Coating Ring CVD TaC コーティングリング TaC Coating Plate TaCコーティングプレート


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SiC結晶成長用炭化タンタル(TaC)コーティング多孔質黒鉛

SiC結晶成長用炭化タンタル(TaC)コーティング多孔質黒鉛

VeTek Semiconductor 炭化タンタルでコーティングされた多孔質グラファイトは、炭化ケイ素 (SiC) 結晶成長技術の最新のイノベーションです。高性能の熱場向けに設計されたこの先進的な複合材料は、PVT (物理的蒸気輸送) プロセスにおける蒸気相管理と欠陥制御のための優れたソリューションを提供します。
TaC コーティングされたグラファイト ウェーハ カバー リング

TaC コーティングされたグラファイト ウェーハ カバー リング

VeTek Semiconductor は、中国の TaC コーティングされたグラファイト ウェーハ カバー リングの専門メーカーおよびサプライヤーです。当社は高度で耐久性のあるTaCコーティンググラファイトウェハーカバーリングを提供するだけでなく、カスタマイズされたサービスもサポートしています。当社の工場からTaCコーティングされたグラファイトウェーハカバーリングを購入することを歓迎します。
CVD TaC コーティングサセプタ

CVD TaC コーティングサセプタ

Vetek CVD TaC コーティング サセプターは、高性能 MOCVD エピタキシャル成長用に特別に開発された精密ソリューションです。 1600℃の極度の高温環境下でも優れた熱安定性と化学的不活性性を示します。 VETEK の厳格な CVD 堆積プロセスを利用して、当社はウェーハ成長の均一性を改善し、コアコンポーネントの耐用年数を延長し、半導体製造のすべてのバッチに安定した信頼性の高いパフォーマンス保証を提供することに取り組んでいます。
CVD TaC コーティングされたグラファイト リング

CVD TaC コーティングされたグラファイト リング

Veteksemicon の CVD TaC コーティングされたグラファイト リングは、半導体ウェーハ処理の極端な要求を満たすように設計されています。化学蒸着 (CVD) 技術を利用して、緻密で均一な炭化タンタル (TaC) コーティングを高純度グラファイト基板に塗布し、優れた硬度、耐摩耗性、化学的不活性性を実現します。半導体製造では、CVD TaC コーティング グラファイト リングは MOCVD、エッチング、拡散、エピタキシャル成長チャンバーで広く使用されており、ウェーハ キャリア、サセプタ、およびシールド アセンブリの重要な構造コンポーネントまたはシール コンポーネントとして機能します。またのご相談をお待ちしております。
多孔質TaCコーティンググラファイトリング

多孔質TaCコーティンググラファイトリング

VETEK が製造する多孔質 TaC コーティング グラファイト リングは、軽量の多孔質グラファイト基材を使用し、高純度の炭化タンタル コーティングでコーティングされており、高温、腐食性ガス、プラズマ侵食に対する優れた耐性を備えています。
TACコーティンググラファイトガイドリング

TACコーティンググラファイトガイドリング

当社のTACコーティンググラファイトガイドリングは、半導体ウェーハ製造用の精密コアコンポーネントです。それらは、耐摩耗性と化学的に不活性な炭化物(TAC)コーティングでコーティングされた高純度のグラファイト基板を特徴としています。エピタキシャル堆積やプラズマエッチングなどの要求の厳しいプロセス用に設計されているため、正確なウェーハのアライメントと安定性を確保し、汚染を効果的に制御し、成分の寿命を大幅に拡大します。 Veteksemiconは、機器とプロセスの要件を完全に一致させるためのカスタマイズサービスを提供しています。
中国の専門家炭化タンタルコーティングメーカーおよびサプライヤーとして、私たちは独自の工場を持っています。あなたの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要であるか、中国製の高度で耐久性のある炭化タンタルコーティングを購入したい場合でも、メッセージを残すことができます。
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