アドバンスセラミック

VeTek Semiconductor は、処理を強化するための包括的な半導体セラミックを提供しています。当社の炭化ケイ素コーティングは、その密度、高温耐性、耐薬品性で知られており、半導体製造のさまざまな段階に最適です。これらのコーティングは半導体ウェーハの処理と製造に利用され、効率と信頼性を保証します。

さらに、以下のような他の半導体セラミックも提供しています。

石英: 石英は、優れた高温安定性、化学的不活性性、光透過性を示します。フォトリソグラフィー、化学蒸着 (CVD)、物理蒸着 (PVD) など、半導体製造において幅広い用途に使用されます。石英基板、チューブ、ウィンドウは、半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たします。

酸化アルミニウムセラミックス: 酸化アルミニウムセラミックスは、優れた絶縁特性、高温安定性、化学的不活性性を備えています。これらは、半導体装置の絶縁体、ガスケット、パッケージング、基板などのコンポーネントによく使用されます。酸化アルミニウムセラミックスは、高い絶縁性と高温耐性を備えているため、半導体製造において重要な材料となっています。

窒化ホウ素セラミックス: 窒化ホウ素セラミックスは、優れた熱伝導性、高硬度、および化学的不活性性を示します。アニール、熱処理、パッケージングなど、半導体製造の高温環境で広く使用されています。窒化ホウ素セラミックは、固定具、発熱体、ヒートシンク、および基板の製造に一般的に使用されます。

ジルコニア：ジルコニアは高強度、高硬度、耐熱性に優れたセラミックス素材です。優れた化学的安定性と優れた絶縁特性を備えています。半導体製造では、ジルコニアは高温環境での断熱コンポーネント、窓、センサーの製造によく使用されます。ジルコニアは、優れた熱伝導率と低い誘電損失により、RF およびマイクロ波デバイスにも広く使用されています。

窒化ケイ素: 窒化ケイ素は、優れた機械的強度と熱伝導率を備えた、高温耐性と耐食性のあるセラミック材料です。これは、薄膜カプセル化、絶縁層、センサー、スペーサーなどの重要なコンポーネントの半導体製造で一般的に使用されます。窒化ケイ素は優れた絶縁性と化学的安定性を示し、高温や過酷な環境下でも安定した動作を可能にします。さらに、誘電率と誘電損失が低いため、高周波電子デバイスやマイクロエレクトロニクスのパッケージングに最適です。

VeTek Semiconductor では、業界の厳しい要件を満たす高品質のその他の半導体セラミックを提供することに尽力しています。

主な特長

● 包括的な材料ポートフォリオ: 石英、アルミナ (Al₂O₃)、窒化ホウ素 (BN)、ジルコニア (ZrO₂)、窒化ケイ素 (Si₃N₄)。

●半導体グレードのプロセス環境に適した高純度、低汚染です。

● 優れた高温安定性、化学的不活性性、および各材料に合わせた熱/電気特性を備えています。

●ボート、チューブ、窓、シールド、絶縁体、治具、センサー、カスタムパーツなどの精密加工能力。

● CVD/PVD、フォトリソグラフィー、拡散、アニーリング、パッケージング、RF/マイクロ波デバイスにわたる実証済みのアプリケーション。

● ISO9001 認定の品質管理と特定の装置およびプロセス要件に適合するカスタマイズのサポート。

アプリケーション

半導体プロセスの多様なニーズを満たすために、VeTek は対象を絞ったその他の半導体セラミック製品を提供しています。次の表は、主要な材料と用途分野ごとにそれらを分類しています。

プロセスマッチングソリューションの詳細については、以下を参照してください。半導体石英関連ページ。

中国のその他の半導体セラミックの専門メーカーおよびサプライヤーとして、当社は独自の工場を持っています。お住まいの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要な場合でも、高度で耐久性のある中国製のその他の半導体セラミックを購入したい場合でも、メッセージを残してください.