製品

テクニカルサービス

1.精製とマッピング

VeTek Semiconductor の技術サービスは、さまざまな半導体材料の精製とマッピングをカバーしており、さまざまな用途向けの高品質の半導体材料を顧客に提供することを目指しています。高度な精製技術と設備を導入し、不純物を効果的に除去し、半導体材料の純度を高めます。当社の精製プロセスは、提供される材料の優れた純度と安定性を確保するために、複数のステップと厳格な品質管理を含むように慎重に設計されています。

同時に、当社はお客様に正確で信頼性の高い地図サービスを提供することに尽力しています。当社は高度な試験設備と機器を備え、経験豊富な専門チームを信頼して、半導体材料の特性の総合的な測定と分析を行うことができます。当社のマッピング作業には、電気的特性、組成、純度、物理的特性などのテストと、材料の構造と組成の詳細な研究が含まれます。マッピングを通じて、お客様に材料特性の正確な評価と関連する推奨事項を提供するための詳細なデータと情報を取得できます。

GDMS GDMS D-SIMS D-SIM Coordinate measuring machine 三次元測定機

2.機械能力

VeTek Semiconductor は、グラファイト、炭化ケイ素、その他の半導体製品の優れた加工能力と経験を有しており、顧客の高精度および高純度を満たすことができます。

高品質およびその他の処理要件。使用する工具、切断プロセス、材料の選択も、マイクロメートル単位のサイズ制御と製品の制御を実現するために慎重に最適化されています。

高い表面品質。私たちは加工プロセスにおける品質管理とプロセスの最適化に注意を払い、製品の品質を確保するために加工プロセスの主要なパラメータをリアルタイムで監視および制御します。

一貫性と安定性。また、製品が顧客の要求と業界標準に従って処理されていることを確認するために厳格な品質管理システムを導入し、包括的な品質検査を実施します。

当社は、お客様の高まるニーズに応え、優れたソリューションとサポートを提供するために、設備の改善と技術革新に継続的に投資していきます。

3.熱場変化の解決策

熱分野の設計と変革に関して、当社はチョクラ単結晶、鋳造多結晶、ガリウムヒ素、セレン化亜鉛、サファイア、炭化ケイ素、その他の産業機器への設計とバッチ供給を完了できます。同時に、さまざまな高温環境下でのさまざまな構造、コンポーネント、雰囲気の機械的熱計算を行うため、当社は専門的なモデリングおよびシミュレーション計算能力も備えており、顧客に専門的な設計最適化プログラムと提案を提供できます。

Technical Service


主な特長

  • 材料の精製とマッピング: 高品質の半導体材料の複数段階の精製と包括的な特性評価 (電気、組成、純度、構造)。
  • 精密機械加工: マイクロメートルレベルの寸法制御と高い表面品質を備えた、グラファイト、炭化ケイ素、その他の半導体部品の最先端の機能。
  • 熱場の設計と修正: チョクラルスキー、鋳造、GaAs、ZnSe、サファイア、SiC、その他のシステムの設計と供給、さらに熱シミュレーションと最適化。
  • CVD SiC コーティング部品の洗浄: MOCVD サセプターとグラファイト部品に特化した洗浄で、コーティング厚さの損失や金属残留物はゼロです。
  • 装置ソリューション: 正確なプロセス制御による 6 ~ 12 インチの結晶成長をサポートする大型抵抗加熱 SiC 結晶成長炉。


アプリケーション

半導体材料および装置の顧客の多様なニーズを満たすために、VeTek は対象を絞った技術サービスを提供しています。次の表は、主要なサービスエリアごとにそれらを分類しています。

サービスエリア 代表的なサービス・製品 アプリケーションの説明
材料の精製とマッピング 精製プロセス。電気 / 組成 / 純度 / 構造試験および分析 不純物を除去し、半導体材料を完全に特性評価して、さまざまな用途向けの高純度、安定性、正確な特性評価を保証します。
精密加工 グラファイト、炭化ケイ素、その他の半導体製品の機械加工 半導体装置に使用されるグラファイトやSiC部品を、ミクロン単位の制御で高精度・高純度に加工し、高い表面品位を実現します。
熱場の設計と修正 熱場の設計とバッチ供給。熱シミュレーションと最適化 チョクラルスキー、鋳造、GaAs、ZnSe、サファイア、SiC、その他のシステム用の熱場の設計と供給。高温条件下での機械熱計算と設計の最適化。
部品洗浄(CVD SiC) CVD SiCコーティンググラファイト部品洗浄サービス Aixtron/Veeco MOCVD サセプタおよび GaN/AlN/AlGaN エピのグラファイト部品の特殊洗浄。メモリー効果を除去し、CVD SiC コーティングを保護します (厚さの損失ゼロ、金属残留物ゼロ)。
結晶成長装置 大型抵抗加熱式SiC結晶成長炉 安定した6~12インチのSiC結晶成長のためのPVTベースの抵抗加熱炉。温度、圧力、電力を正確に制御して欠陥を減らし、工業生産をサポートします。

関連する材料とプロセス ソリューションについては、を参照してください。炭化ケイ素コーティング, 特殊グラファイトそして炭化ケイ素エピタキシーページ


中国の専門的なテクニカルサービスメーカーおよびサプライヤーとして、当社は独自の工場を持っています。お住まいの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要な場合でも、中国製の高度で耐久性のある技術サービスを購入したい場合でも、メッセージを残してください.

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CVD SiCコーティンググラファイト部品洗浄サービス

CVD SiCコーティンググラファイト部品洗浄サービス

CVD SiC コーティングされたグラファイト部品用の VETEK プロフェッショナル クリーニング サービスは、GaN / AlN / AlGaN エピタキシャル プロセスで使用される Aixtron / Veeco MOCVD 装置サセプタおよびグラファイト コンポーネント向けに設計された専門技術サービスです。当社独自の洗浄プロセスは、表面形状記憶効果を徹底的に排除し、リアクター内の安定したガスの流れを回復し、絶対ゼロの厚さ損失とゼロの金属残留物で 100 µm の CVD SiC コーティングを厳密に保護します。
大型抵抗加熱式SiC結晶成長炉

大型抵抗加熱式SiC結晶成長炉

炭化ケイ素の結晶成長は、高性能半導体デバイスの製造における中心的なプロセスです。結晶成長装置の安定性、精度、互換性は、炭化ケイ素インゴットの品質と歩留まりに直接影響します。 Veteksemi は、物理的蒸気輸送 (PVT) 技術の特性に基づいて、炭化ケイ素結晶成長用の抵抗加熱炉を開発しました。これにより、導電性、半絶縁性、および N タイプの材料システムとの完全な互換性を備えた 6 インチ、8 インチ、および 12 インチの炭化ケイ素結晶の安定した成長が可能になります。温度、圧力、電力を正確に制御することで、EPD (エッチピット密度) や BPD (基底面転位) などの結晶欠陥を効果的に低減し、同時に工業的な大規模生産の高い基準を満たす低エネルギー消費とコンパクトな設計を特徴としています。
中国の専門的な テクニカルサービス メーカーおよびサプライヤーとして、当社は独自の工場を持っています。お住まいの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要な場合でも、高度で耐久性のある中国製の テクニカルサービス を購入したい場合でも、メッセージを残していただけます。
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