ソフトフェルト

VeTek Semiconductor は、高品質のグラファイト ソフト フェルトの専門メーカーであり、太陽光発電および半導体産業向けの革新的なソリューションの開発と生産に特化しています。当社の研究開発チームは、経験豊富で革新的な専門家のグループで構成されています。当社は常に新しい技術と用途を探求し、グラファイトソフトフェルトの性能を向上させ、進化する業界のニーズを満たすことに尽力しています。

VeTek Semiconductor グラファイト ソフト フェルトには次の利点があります。

1.優れた断熱性能：熱損失を効果的に低減し、機器内の温度環境を安定に維持し、エネルギー消費を削減します。

2.優れた耐高温性：ソフトフェルトは高温条件下でも安定した物理的および化学的特性を維持することができ、太陽光発電や半導体の製造プロセスにおける高温環境に耐えることができます。

3. 低い熱伝導率: 正確な温度制御を実現し、プロセスの安定性と製品品質を向上させます。

4. 高い化学的安定性：ほとんどの化学物質に対して優れた耐性を持ち、腐食や汚染が起こりにくいです。

5. 高純度: 太陽光発電および半導体の製造プロセスに対する不純物の干渉を低減し、製品の性能と品質を保証します。

6. 優れた耐熱衝撃性: 急激な温度変化に耐えることができ、容易に破裂したり損傷したりしません。

VeTek Semiconductorグラファイトソフトフェルトの応用:

1. 単結晶炉の熱場コンポーネント: チョクラルスキー単結晶炉では、炉内の温度勾配を効果的に維持し、結晶成長の品質と安定性を向上させるために、グラファイトのソフトフェルトを断熱材として使用できます。

2. 多結晶インゴット炉：断熱材として、熱損失を低減し、熱場分布を最適化し、多結晶シリコンインゴットの品質と生産効率の向上に役立ちます。

3. 拡散炉: 断熱、炉内の温度均一性の確保、拡散プロセスの精度と一貫性の向上に使用されます。

4. エピタキシャル炉: エピタキシャル成長プロセスに安定した熱環境を提供し、半導体エピタキシャル層の品質に対する温度変動の影響を軽減します。

5. 半導体パッケージング: 一部のハイエンド半導体パッケージング プロセスでは、熱的および機械的ストレスによる損傷からチップを保護する、絶縁、緩衝、サポートの役割を果たします。

6. 太陽電池製造装置: 装置内の温度安定性を維持し、薄膜堆積の品質を確保するために使用されるプラズマ化学気相成長 (PECVD) 装置など。

VeTek Semiconductor グラファイト ソフト フェルトには以下が含まれます:

レーヨンベースのカーボン/グラファイトフェルト 高温耐性、耐食性、高純度、低灰分、油汚染がないなどの特性を持っています。線径が細く、絶縁性能が強い。主に単結晶育成炉やハイエンド高温装置で使用されます。

ピッチベースのカーボン/グラファイトフェルト ドイツ独自のシルク織物を使用しており、レーヨン系素材に比べ耐食性、耐酸化性、純度に優れ、断熱性能も優れています。主に太陽光発電単結晶業界の高性能装置に使用されます。

PANカーボン/グラファイトフェルト 高温耐性、耐食性、高純度、低灰分、軽くて柔らかい質感、高い形状保持性などの特性を持っています。真空や不活性ガスなどの高温環境下でも優れた絶縁性能を発揮し、安定した性能を発揮します。単結晶育成炉、多結晶インゴット炉、中周波誘導炉などの高温装置に広く使用されています。

酸化済みグラファイトフェルト 高品質の原材料の厳格な選別と製造プロセスの継続的な改善により、レーヨンベースのグラファイトフェルトと同様の断熱性能とPANベースのグラファイトフェルトよりも優れた寿命を備えた製品が得られました。優れた絶縁性、耐侵食性、高純度、低灰分、高強度、長寿命という特徴があり、非常に高いコストパフォーマンスを持っています。単結晶育成炉、多結晶インゴット炉、中周波誘導高温炉、耐黒鉛高温炉などに幅広く使用されています。

バッテリーフェルト ドイツから輸入された高品質の PAN ベースの繊維で作られており、平坦度、空隙率、密度、比表面積、導電率などのパラメータにおいて優れた性能を誇ります。主に燃料電池やフロー電池などの用途に使用されます。