窒化シリコン

1。優れた化学的安定性

窒化シリコンセラミックは優れた化学的安定性を持ち、さまざまな強酸、アルカリ、腐食性ガスに耐えることができます。半導体製造プロセスでは、腐食性化学物質に対処する必要があることがよくあり、窒化シリコンセラミックは長期的な安定性のパフォーマンス保証を提供できます。

2。優れた機械的特性

窒化シリコンセラミックは、硬度が高く、優れた圧縮強度と耐摩耗性があり、機械的ストレスや表面摩耗に耐えることができ、変形や破裂は簡単ではありません。この機械的特性により、半導体機器の構造部品とプロセス部品の材料として非常に適しています。

3。高温安定性

窒化シリコンセラミックは、高温環境で安定性を維持でき、柔らかくしたり溶けたりするのは簡単ではなく、半導体製造プロセスでの高温処理と取り扱いに耐えることができます。これにより、グリッパー、反応チャンバー成分など、高温プロセス機器の主要成分の製造に使用できます。

4.優れた絶縁特性

断熱特性は、半導体デバイスの製造において重要です。窒化シリコンセラミックには良好な断熱特性があり、回路成分を現在の漏れや電磁干渉から効果的に分離および保護することができ、デバイスの安定性と信頼性を改善するのに役立ちます。

5。熱伝導率と熱伝導率

窒化シリコンセラミックは熱伝導率が高く、デバイスによって生成された熱を効果的に導入および放散することができ、動作プロセスでデバイスの温度安定性を維持するのに役立ちます。これは、半導体デバイスの高性能操作にとって重要です。

1。静電チャックとエッチングチャンバー成分

窒化シリコンセラミックは、優れた化学的安定性と高温耐性のため、静電チャックおよび半導体製造におけるエッチングチャンバー成分の材料としてよく使用されます。静電チャックは、ウェーハまたは基質を固定および安定化するために使用されますが、エッチングチャンバー成分は腐食性ガスと高温環境に耐えるために使用されます。

2。ガス分布プレートとリフレクター

窒化シリコンセラミックは、ガス分布プレートおよびリフレクターの半導体装置の製造にも使用されます。ガス分布プレートは、反応性ガスまたは保護ガスを反応チャンバーに均一に分布させるために使用されますが、反射器は反応効率と均一性を改善するために反応チャンバー内の光の分布と反射を最適化するために使用されます。

3。ホルダーと熱成分

窒化シリコンセラミックは、半導体製造装置の保有者および熱管理コンポーネントとしてよく使用されます。これらのコンポーネントは、安定した機器の動作とデバイス処理の精度を確保するために、良好な機械的強度、耐摩耗性、熱伝導性を持つ必要があります。

4。化学機械研磨（CMP）パッド

窒化シリコンセラミックは、化学機械研磨（CMP）プロセスのパッド材料として広く使用されています。優れた平坦性と耐摩耗性があり、半導体ウェーハ表面の平坦性と精度を確保するために、研磨プロセス中に安定したサポートを提供できます。