PECVDグラファイトボートとは何ですか？

ⅰ。 PECVDグラファイトボートの素材は何ですか？

のコア素材PECVDグラファイトボート（プラズマ強化化学蒸気堆積グラファイトボート）は、高純度で作られています等方性グラファイト材料（純度は通常99.999％以上）、特別なプロセス（化学蒸気堆積CVDや表面コーティングなど）によって変更されます。高純度のグラファイトは、その優れた電気伝導率と高い熱伝導率（80〜150 w/m・k）のため、PECVDシステムで広く使用されています。これ高純度のグラファイト材料高温環境で良好な構造の安定性と化学的安定性を維持することができ、反応性ガスやプラズマからの腐食に耐えることができます。

ⅱ。グラファイトボートの物理的特性は何ですか？

PECVDグラファイトボートの物理的特性は次のとおりです。

● 電気伝導率：アイソスタティックグラファイトは優れた電気導電率を持っているため、電気エネルギーを効果的に管理し、PECVDプロセス中にプラズマの生成と維持を促進できます。

●  熱伝導率：グラファイトの高い熱伝導率（約80〜150 w/m・K）は、PECVDプロセス中に安定した温度環境を維持し、薄膜の均一な堆積を確保するのに役立ちます。

●  密度：市販の多結晶グラファイトの密度は、1.30 g/cm³から1.88 g/cm³の範囲です。密度が高いほど、製品のサービス寿命を改善できる物理的および機械的特性が向上します。

ⅲ。通常のグラファイトボートと比較して、PECVDグラファイトボートの利点は何ですか？

通常のグラファイトボートと比較して、PECVDグラファイトボートには次の利点があります。

ⅳ。なぜVeteksemiconのPECVDグラファイトボートを選ぶのですか？

誰もが知っているように、Veteksemiconは半導体コーティング製品の大手メーカーおよびサプライヤーであり、グラファイト製品中国で。私たちのPECVDグラファイトボート主に半導体および太陽光発電産業、特にPECVDおよびCVDプロセスで使用されます。

グラファイトボートは通常、高温およびプラズマ環境でのこれらの材料の安全な取り扱いと輸送を確保するために、シリコンウェーハまたはその他の材料を運ぶキャリアとして使用されます。たとえば、半導体製造プロセスでは、VeteksemiconのPECVDグラファイトボートは、血漿強化された化学蒸気堆積プロセス用に設計されています。グラファイトボートは、窒化シリコン（sinₓ）無視層と低誘電率（低k）フィルムの堆積の役割を果たします。

太陽光発電場では、PECVDグラファイトボートを使用して、シリコンベースの薄膜太陽電池（アモルファスシリコンA-SI：Hなど）およびPERC細胞のパッシブ化層を調製します。 VeteksemiconのPECVDグラファイトボートは、シリコンウェーファーを効果的に間隔および誘導し、均一なコーティング堆積を実現するためにグローの分泌物を誘導することにより、コーティングプロセスを最適化します。

さらに重要なことに、Veteksemiconはカスタマイズされた製品と技術サービスを提供し、実際のプロセス要件に応じてさまざまな仕様のグラファイトボート製品を設計および製造できます。 Veteksemiconを選択するということは、半導体および太陽光発電産業に強い力を持つ業界のリーダーを選ぶことを意味します。私たちはあなたの長期的なパートナーになることを心から楽しみにしています。