Vetek Semiconudctor は、半導体用途を含むさまざまな業界向けに、高純度でカスタマイズされた粒子サイズの高純度グラファイト粉末を提供しています。
グラファイトシルト状の柔らかい、ブラックグレー。油っぽいので紙を汚す可能性があります。硬度は 1 ~ 2 ですが、不純物の増加により垂直方向に沿って硬度を 3 ~ 5 まで高めることができます。比重は1.9~2.3。酸素が遮断された状態では、その融点は3000℃を超え、高温に強い鉱物の一つです。
Vetek Semiconductor の高純度グラファイト粉末は、純度が最大 5ppm の高品質の製品です。当社は材料の不純物含有量を厳しく管理し、最高の業界基準を確実に満たしています。当社のグラファイト粉末は粒子形態に応じてカスタマイズできるため、より柔軟に使用できます。主に炭化ケイ素粉末の合成やダイヤモンドの合成に使用されます。当社の製品は高純度で正確な粒度分布を備えているため、半導体、エレクトロニクス、ハイテク産業のお客様にとって理想的です。
Vetek Semiconductor は、極めて高純度で優れた高結晶性を備えた微粉末を常に提供しており、半導体産業をはじめとするさまざまな産業で活躍しています。 1~100ミクロンの幅広いグレードを揃え、99.999%の超高純度の粉末製品もあり、あらゆる分野のお客様の基本用途にお応えします。
最新鋭の生産設備と独自の高度な加工技術を駆使し、原料加工から製品までの一貫生産体制によりファインパウダーを生産します。原料は一元的な製造管理の下、超微粉砕・分級設備により用途に応じて1~100ミクロンのレベルまで粉砕されます。原料は選別工程を経て、洗練された製品に仕上げられます。
高純度黒鉛粉末は化学的安定性に優れています。優れた耐食性、優れた熱伝導性、低透過性を備え、熱交換器、反応タンク、凝縮器、燃焼塔、吸収塔、冷却器、加熱器、フィルター、ポンプおよびその他の機器の製造に広く使用されています。
黒鉛粉末は熱膨張係数が小さく、熱衝撃変化が生じる可能性があるため、通常、高純度黒鉛から加工され、単結晶シリコン、地域精錬容器、ブラケット治具、誘導加熱器などの結晶成長炉に使用されます。さらに、グラファイトは真空溶解グラファイト断熱ボードおよびベース、高温炉管、ロッド、プレート、グリッドおよびその他の部品としても使用できます。
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