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TACコーティングされたウェーハ容疑者
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TACコーティングされたウェーハ容疑者

Vetek半導体TACコーティングされたウェーハ容疑者は、炭化シリコンのエピタキシャル成長のために炭化物をコーティングしたグラファイトトレイで、ウェーハの品質と性能を向上させます。 Vetekは、高度なコーティング技術と優れたSICエピタキシー結果と拡張された容疑者の寿命を確保するための耐久性のあるソリューションのために選択されています。

vetek半導体TACコーティングウェーハ容疑者は、で使用される重要なコンポーネントです金属有機化学蒸気堆積(MOCVD)の原子炉半導体エピタキシャル(EPI)プロセス。この特殊なラウンドベースは、高品質のグラファイトで作られており、炭化物タンタルム(TAC)の層でコーティングされています。これは、その例外的な熱および化学的特性でよく知られています。


TACコーティングの主な機能は、半導体製造の過酷な条件下でのウェーハ容疑者の性能と耐久性を改善することです。 Tantalum Carbideは、硬度、高い融点、および優れた耐摩耗性で有名であり、理想的な保護層になります。このコーティングは、腐食性の化学的反応と内部で発生する機械的応力から基礎となるグラファイトベースを保護します。MOCVD反応器、機器の寿命を延長し、信頼性を向上させます。


半導体材料のエピタキシャル成長中、TACコーティングされたウェーハ容疑者は、正確なフィルムの堆積を確保することにより重要な役割を果たします。高温と過酷な化学環境に対する耐性は、半導体デバイスの正確な生産にとって重要であり、要求の厳しいプロセス条件で機器が安定して機能することができます。


aの組み合わせグラファイトコアそしてTACコーティング受容器全体で均一な熱分布を保証します。これは、MOCVDプロセス中に成長した半導体層の再現性と品質を改善するために不可欠です。この高度な材料設計は、耐久性を提供するだけでなく、高性能の電子コンポーネントのための最新の半導体製造の厳しい要求を満たしています。


Vetek半導体は、TACコーティングされたウェーハ容疑者の大手サプライヤーおよびメーカーとして、半導体業界向けの高品質の技術ソリューションの提供に取り組んでいます。私たちは、中国で長期的に信頼できるパートナーになることを楽しみにしており、信頼できるカスタマイズされた製品を提供しています。


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