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炭化物コーティングされたタンタルムカバー
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炭化物コーティングされたタンタルムカバー

Vetek Semiconductorは、中国の主要な炭化物コーティングされたカバーメーカーおよびイノベーターです。私たちは長年にわたってTACおよびSICコーティングに特化しています。私たちの製品には耐食性があり、高強度があります。中国であなたの長期的なパートナーになることを楽しみにしています。いつでも相談しましょう。

vetek半導体で中国から炭化物コーティングされたタンタルの膨大なセレクションを見つけてください。協力を楽しみにして、プロのアフターセールスサービスと適切な価格を提供します。VETEKSemiconductorが開発したTantalum Carbide Coated Coverは、AIXTRON G10 MOCVDシステム専用に設計されたアクセサリーであり、効率を最適化し、半導体の製造品質を向上させることを目的としています。高品質の材料を使用して細心の注意を払って作られ、最大限の精度で製造されており、金属製の化学蒸気堆積(MOCVD)プロセスの優れた性能と信頼性を確保します。


化学蒸気堆積(CVD)炭化物(TAC)でコーティングされたグラファイト基質で構成された炭化物コーティングされたカバーを提供します。このユニークな材料の組み合わせは、MOCVDシステムの厳しい運用条件に信頼できるソリューションを提供します。


炭化物コーティングされたタンタルムは、さまざまな半導体ウェーハサイズに対応するためにカスタマイズ可能であり、多様な生産要件に適しています。その堅牢な構造は、困難なMOCVD環境に耐えるように特別に設計されており、長期にわたるパフォーマンスを確保し、ウェーハキャリアと受容体に関連するダウンタイムとメンテナンスコストを最小限に抑えます。


TACカバーをAIXTRON G10 MOCVDシステムに組み込むことにより、半導体メーカーはより高い効率と優れた結果を達成できます。並外れた熱安定性、異なるウェーハサイズとの互換性、および惑星ディスクの信頼性の高い性能は、生産効率を最適化し、MOCVDプロセスで優れた結果を達成するための不可欠なツールになります。



炭化物コーティングされたタンタルムの製品パラメーター

TACコーティングの物理的特性
密度 14.3(g/cm³)
特定の放射率 0.3
熱膨張係数 6.3 10-6/k
硬度(hk) 2000 HK
抵抗 1×10-5オーム*cm
熱安定性 <2500℃
グラファイトサイズの変更 -10〜-20um
コーティングの厚さ ≥20um典型的な値(35um±10um)


コンポーネントを使用した後のウェーハパフォーマンス:

the Wafer performance after using our components


ディーラー半導体:

Tantalum Carbide Coated Cover shops


半導体チップエピタキシー産業チェーンの概要:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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