PECVDグラファイトボート

Veteksemiconは、プロの中国PECVDグラファイトボートメーカーおよびサプライヤーです。

Vetek半導体の太陽電池（コーティング）PECVDグラファイトボートの役割は何ですか？

コーティングプロセスによって生成される通常のシリコンウェーハのキャリアとして、グラファイトボートには構造に特定の間隔がある多くのボートウェーハがあり、2つの隣接するボートウェーハの間に非常に狭いスペースがあり、シリコンウェーファーは空のドアの両側に配置されています。

PECVDグラファイトボート材料のグラファイトには良好な電気導電率および熱伝導率があるため、AC電圧は2つの隣接するボートで尋ねられ、2つの隣接するボートがチャンバー内に特定の圧力とガスがあるときに、2つのボートの間に輝く排出が発生すると、SI4とNH3ガスがSIとNH3ガスを分解する可能性があります。 SINX分子は、コーティングの目的を達成するために、シリコンウェーハの表面に形成され、堆積されます。

PECVDグラファイトボートは、通常、高温およびプラズマ環境でのこれらの材料の安全な取り扱いと輸送を確保するために、シリコンウェーハまたはその他の材料を運ぶキャリアとして使用されます。たとえば、半導体製造プロセスでは、VeteksemiconのPECVDグラファイトボートは、血漿強化された化学蒸気堆積プロセス用に設計されています。グラファイトボートは、窒化シリコン（sinₓ）無視層と低誘電率（低k）フィルムの堆積の役割を果たします。

太陽光発電場では、PECVDグラファイトボートを使用して、シリコンベースの薄膜太陽電池（アモルファスシリコンA-SI：Hなど）およびPERC細胞のパッシブ化層を調製します。 VeteksemiconのPECVDグラファイトボートは、シリコンウェーファーを効果的に間隔および誘導し、均一なコーティング堆積を実現するためにグローの分泌物を誘導することにより、コーティングプロセスを最適化します。

さらに重要なことに、Veteksemiconはカスタマイズされた製品と技術サービスを提供し、実際のプロセス要件に応じてさまざまな仕様のグラファイトボート製品を設計および製造できます。私たちはあなたの長期的なパートナーになることを心から楽しみにしています。

そして 通常のグラファイトボートと比較したPECVDグラファイトボートの利点、クリックするだけです