多孔質SiC
多孔質SICセラミックチャック
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多孔質SICセラミックチャック

Vetek Semiconductorは、ボンディング、筆記、パッチ、研磨およびその他のリンク、レーザー処理に適した、ウェーハ処理技術、転送およびその他のリンクで広く使用されている多孔質SICセラミックチャックを提供します。私たちの多孔質SICセラミックチャックは、非常に強い真空吸着、高い平坦度、高純度を持っています。ほとんどの半導体産業のニーズを満たしています。

Vetek Semiconductorの多孔質SICセラミックチャックは、多くの顧客に好評を博しており、多くの国で良い評判を享受しています。 VETEK半導体多孔質セラミックワークムチャックには、多孔質セラミックワクサムチャックの詳細については、特徴的な設計と実用的なパフォーマンスと競争力のある価格があります。お気軽にお問い合わせください。

多孔質SICセラミックチャックは、ミクロ多孔性真空カップとも呼ばれます。一般的な多孔度は2〜100umサイズに調整できます。特別なナノ粉末製造プロセスを指し、均一な固体または真空球体を生成して、材料で高温焼結を介して大量の接続または閉じたセラミック材料を生成します。特別な構造により、高温抵抗、耐摩耗性、化学耐性耐性、高機械強度、簡単な再生、優れた熱衝撃耐性などの利点があります。これは、高温ろ過材料、触媒キャリア、燃料電池の多孔質電子、燃料電池、敏感な成分、エネルギー膜、環境の環境、環境へのアプリケーションなどに使用できます。生化学およびその他の分野。


多孔質SICセラミックチャックは、半導体ウェーハ処理および転送プロセスに広範なアプリケーションを見つけます。これは、結合、筆記、執筆、添付ファイル、研磨、レーザー加工などのタスクに適しています。



私たちの利点:

カスタマイズ:ウェーハの形状と素材、および特定の機器と運用条件に完全に一致するように、コンポーネントを調整します。

寸法精度:正確な仕様を満たすために、寸法精度を実現できます。たとえば、3μm未満の平らな8インチウェーハ、5μm未満の平坦性の12インチウェーハのチャックを生産できます。

孔のサイズと気孔率:多孔質セラミックチャックは、20〜50μmの範囲の孔サイズと35〜55%の間の多孔性レベルを備えており、さまざまな処理アプリケーションで最適なパフォーマンスを確保しています。

評価のために単一のピースを必要とするか、複数のワークピースにカスタマイズされたチャックが必要かどうかにかかわらず、私たちはあなたの次元と材料の要件を正確に満たすことに専念しています

卓越性。さらなる問い合わせや特定のニーズについて話し合うために、お気軽にお問い合わせください。


顕微鏡下の多孔質SICセラミックチャック製品画像



多孔質SICセラミックプロパティリスト
アイテム ユニット 多孔質SICセラミック
気孔率 1つ 10-30
密度 g/cm3 1.2-1.3
粗さ 1つ 2.5-3
吸引値 KPA -45
曲げ強度 MPA 30
誘導性 1MHz 33
熱伝達率 w/(m・k) 60-70


多孔質SICセラミックチャックプロダクションショップ:

VeTek Semiconductor Production Shop


半導体チップエピタキシー産業チェーンの概要:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain

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