TACコーティングプレート

主要なTACコーティングプレートメーカーおよびサプライヤーとして、Vetek半導体TACコーティングプレートはの重要な部分として機能します半導体エピタキシー反応器、優れたエピタキシャル層の収量と成長効率を支援し、製品の品質を向上させます。 私たちの工場からTACコーティングプレートを購入することは安心できます。

金属有機化学蒸気堆積（MOCVD）による3番目の主要グループ窒化窒素エピタキシャルシート（GAN）の調製など、より厳しい、より厳しい調製環境を備えた新しい半導体の生産のために、および化学蒸気堆積（CVD）によるSICエピタキシャル成長フィルムの調製は、hなどのガスによって侵食されます。₂とnh₃高温環境で。既存の成長キャリアまたはガスチャネルの表面上のSICおよびBN保護層は、化学反応への関与のために失敗する可能性があり、結晶や半導体などの製品の品質に悪影響を及ぼします。 

したがって、結晶、半導体、その他の製品の品質を改善するための保護層として、化学物質の安定性と耐食性のある材料を見つける必要があります。タンタルム炭化物は、強力な化学結合の役割のために優れた物理的および化学的特性を持っています。その高温化学安定性と腐食抵抗は、SIC、BNなどよりもはるかに高く、腐食抵抗、熱安定性の優れたコーティングの優れたアプリケーションの見通しです。

Vetek Semiconductorには、高度な生産機器と完璧な品質管理システムがあります。TACコーティングパフォーマンスの一貫性のバッチでは、同社は大規模な生産能力を備えており、大量の供給の顧客のニーズを満たし、各製品の品質を安定して信頼性を確保するための完璧な品質監視メカニズムを備えています。

顕微鏡的断面での炭化物コーティング：

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