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炭化ケイ素コーティング

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高純度CVD sic原材料

高純度CVD sic原材料

CVDが調製した高純度CVD SIC原料は、物理的な蒸気輸送による炭化シリコンの結晶成長に最適な材料です。 VETEK半導体によって供給される高純度CVD SIC原材料の密度は、SiおよびC含有ガスの自然燃焼によって形成される小さな粒子の密度よりも高く、専用の焼結炉を必要とせず、ほぼ一定の蒸発速度を持っています。非常に高品質のSIC単結晶を育てることができます。お問い合わせを楽しみにしています。
Veeco LED EP

Veeco LED EP

Vetek半導体のVEECO LED EPI受容器は、赤と黄色のLEDのエピタキシャル成長のために設計されています。高度な材料とCVD SICコーティング技術により、受容器の熱安定性が保証され、成長中に温度フィールドが均一になり、結晶欠陥が減少し、エピタキシャルウェーハの品質と一貫性が向上します。 Veecoのエピタキシャル成長装置と互換性があり、生産ラインにシームレスに統合できます。正確な設計と信頼性の高いパフォーマンスは、効率を改善し、コストを削減するのに役立ちます。お問い合わせを楽しみにしています。
CVD SICフォーカスリング

CVD SICフォーカスリング

Vetek Semiconductorは、CVD SICフォーカスリングの国内メーカーおよびサプライヤーであり、半導体業界向けの高性能で高解放性製品ソリューションを提供することに専念しています。 VETEK半導体のCVD SICフォーカスリングは、高度な化学蒸気堆積(CVD)テクノロジーを使用し、優れた高温抵抗、腐食抵抗、熱伝導率を持ち、半導体リソグラフィプロセスで広く使用されています。お問い合わせはいつでも大歓迎です。
AIXTRON G5+天井コンポーネント

AIXTRON G5+天井コンポーネント

Vetek Semiconductorは、優れた処理機能を備えた多くのMOCVD機器の消耗品のサプライヤーになりました。 Aixtron G5+天井コンポーネントは、当社の最新製品の1つであり、元のAixtronコンポーネントとほぼ同じで、顧客から良いフィードバックを受けています。そのような製品が必要な場合は、Vetek Semiconductorにお問い合わせください!
SICコーティンググラファイトバレル受容器

SICコーティンググラファイトバレル受容器

VETEK半導体SICコーティンググラファイトバレル受容器は、半導体エピタキシープロセス用に設計された高性能ウェーハトレイであり、優れた熱伝導率、高温および化学耐性、高純度表面、生産効率を高めるためのカスタマイズ可能なオプションを提供します。あなたのさらなるお問い合わせを歓迎します。
MOCVDエピタキシャルウェーハが提供します

MOCVDエピタキシャルウェーハが提供します

Vetek半導体は、半導体エピタキシャル成長産業に長い間従事しており、MOCVDエピタキシャルウェーハ容器産物の豊富な経験とプロセススキルを持っています。今日、Vetek半導体は中国を代表するMOCVDエピタキシャルウェーハ受容器メーカーおよびサプライヤーとなっており、それが提供するウェーハ受容器は、Gan Epitaxial Wafersおよびその他の製品の製造において重要な役割を果たしてきました。
中国の専門家炭化ケイ素コーティングメーカーおよびサプライヤーとして、私たちは独自の工場を持っています。あなたの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要であるか、中国製の高度で耐久性のある炭化ケイ素コーティングを購入したい場合でも、メッセージを残すことができます。
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