炭化ケイ素コーティング

VeTek Semiconductor は超高純度の炭化ケイ素コーティング製品の製造を専門とし、これらのコーティングは精製グラファイト、セラミック、高融点金属コンポーネントに適用されるように設計されています。

当社の高純度コーティングは、主に半導体およびエレクトロニクス産業での使用をターゲットとしています。これらは、ウェーハキャリア、サセプタ、および加熱要素の保護層として機能し、MOCVD や EPI などのプロセスで遭遇する腐食性および反応性環境からそれらを保護します。これらのプロセスは、ウェーハ処理とデバイス製造に不可欠です。さらに、当社のコーティングは、高真空、反応性、酸素環境にさらされる真空炉やサンプル加熱での用途に適しています。

VeTek Semiconductor では、高度な機械工場の機能を備えた包括的なソリューションを提供します。これにより、グラファイト、セラミック、または高融点金属を使用して基本コンポーネントを製造し、社内で SiC または TaC セラミックコーティングを適用することが可能になります。また、お客様支給部品の塗装サービスも行っており、多様なニーズに柔軟に対応いたします。

当社の炭化ケイ素コーティング製品は、Siエピタキシー、SiCエピタキシー、MOCVDシステム、RTP/RTAプロセス、エッチングプロセス、ICP/PSSエッチングプロセス、青色LED、緑色LED、UV LED、深紫外などのさまざまなLEDタイプのプロセスで広く使用されています。 LPE、Aixtron、Veeco、Nuflare、TEL、ASM、Annialsys、TSIなどの機器に適合するLEDなど。

私たちができるリアクター部品:

炭化ケイ素コーティングにはいくつかのユニークな利点があります。

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek Semiconductor 炭化ケイ素コーティングのパラメータ

CVD SiCコーティングの基本物性
財産	代表値
結晶構造	FCC β 相多結晶、主に (111) 配向
SiCコーティングの密度	3.21 g/cm3
SiCコーティング硬度	ビッカース硬度 2500（500g荷重）
粒径	2～10μm
化学純度	99.99995%
熱容量	640J・kg^-1・K^-1
昇華温度	2700℃
曲げ強度	415MPa RT 4点
ヤング率	430 Gpa 4pt曲げ、1300℃
熱伝導率	300W・m^-1・K^-1
熱膨張(CTE)	4.5×10-6K^-1

CVD SIC膜の結晶構造

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

炭化ケイ素でコーティングされたエピサセプタ SiCコーティングウェーハキャリア MOCVD用SiCコートサテライトカバー CVD SiC コーティングウェーハエピサセプタ CVD SiCコーティング発熱体 Aixtron サテライトウェーハキャリア SiCコーティングエピレシーバー SiCコーティング半月型グラファイトパーツ

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ガンエピタキシャルアンダーテイカー

中国の主要なGANエピタキシャルセスプターサプライヤーおよびメーカーとして、Vetek半導体Gan Epitaxial Secthenceptorは、CVDやMOCVDなどのエピタキシャル装置をサポートするために使用されるGANエピタキシャル成長プロセス向けに設計された高精度受容器です。 GANデバイス（電子電子デバイス、RFデバイス、LEDなど）の製造では、GANエピタキシャル受容器は基質を運び、高温環境下でのGAN薄膜の高品質の堆積を実現します。あなたのさらなるお問い合わせを歓迎します。

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SiC コーティングされたウェーハキャリア

中国の主要なSICコーティングウェーハキャリアサプライヤーおよびメーカーとして、Vetek半導体のSICコーティングウェーハキャリアは、高品質のグラファイトとCVD SICコーティングで作られています。 Vetek Semiconductorには、業界をリードする処理機能があり、SICコーティングされたウェーハキャリア向けの顧客のさまざまなカスタマイズされた要件を満たすことができます。 Vetek Semiconductorは、あなたとの長期的な協力関係を確立し、一緒に成長することを楽しみにしています。

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SICコーティンググラファイトMOCVDヒーター

Vetek Semiconductorは、SICコーティンググラファイトMOCVDヒーターを生成します。これは、MOCVDプロセスの重要なコンポーネントです。高純度のグラファイト基質に基づいて、表面は高温の安定性と耐食性を提供するために、高純度SICコーティングでコーティングされています。高品質で高度にカスタマイズされた製品サービスを備えたVetek半導体のSICコーティンググラファイトMOCVDヒーターは、MOCVDプロセスの安定性と薄膜堆積品質を確保するための理想的な選択です。 Vetek Semiconductorはあなたのパートナーになることを楽しみにしています。

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炭化ケイ素コーティングされたエピサセプタ

Vetek Semiconductorは、中国のSICコーティング製品の大手メーカーおよびサプライヤーです。 Vetek Semiconductorの炭化シリコンコーティングEPI受容器は、業界の最高品質レベルを持ち、複数のスタイルのエピタキシャル成長炉に適しており、高度にカスタマイズされた製品サービスを提供しています。 Vetek Semiconductorは、中国で長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

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SiCコーティング単結晶シリコンエピタキシャルトレイ

SiC コーティング単結晶シリコンエピタキシャルトレイは、単結晶シリコンエピタキシャル成長炉の重要なアクセサリであり、最小限の汚染と安定したエピタキシャル成長環境を保証します。 VeTek Semiconductor の SiC コーティング単結晶シリコンエピタキシャルトレイは、超長寿命で、さまざまなカスタマイズオプションを提供します。 VeTek Semiconductor は、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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ソリッドSICウェーハキャリア

VETEK半導体の固体SICウェーハキャリアは、半導体エピタキシャルプロセスの高温および腐食耐性環境向けに設計されており、高純度要件を持つあらゆる種類のウェーハ製造プロセスに適しています。 Vetek Semiconductorは、中国の主要なウェーハキャリアサプライヤーであり、半導体業界の長期パートナーになることを楽しみにしています。

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中国の専門家炭化ケイ素コーティングメーカーおよびサプライヤーとして、私たちは独自の工場を持っています。あなたの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要であるか、中国製の高度で耐久性のある炭化ケイ素コーティングを購入したい場合でも、メッセージを残すことができます。