炭化ケイ素コーティング

Veteksemicon の ASM 用 SiC コーティング グラファイト サセプタは、半導体エピタキシャル プロセスにおけるコア キャリア コンポーネントです。この製品は、当社独自の熱分解炭化ケイ素コーティング技術と精密機械加工プロセスを利用して、高温および腐食性のプロセス環境において優れた性能と超長寿命を保証します。当社は、基板の純度、熱安定性、一貫性に関するエピタキシャルプロセスの厳しい要件を深く理解しており、装置全体の性能を向上させる安定した信頼性の高いソリューションをお客様に提供することに尽力しています。

Veteksemicon フォーカス リングは、要求の厳しい半導体エッチング装置、特に SiC エッチング用途向けに特別に設計されています。静電チャック (ESC) の周囲でウェーハに近接して取り付けられるその主な機能は、反応チャンバー内の電磁場分布を最適化し、ウェーハ表面全体にわたって均一で集中したプラズマ作用を保証することです。高性能フォーカス リングは、エッチング レートの均一性を大幅に向上させ、エッジ効果を低減し、製品の歩留まりと生産効率を直接高めます。

Veteksemicon LED エッチング用炭化ケイ素キャリア プレートは、LED チップ製造用に特別に設計されており、エッチング プロセスにおける中心的な消耗品です。精密焼結された高純度炭化ケイ素から作られており、優れた耐薬品性と高温での寸法安定性を備え、強酸、塩基、プラズマによる腐食に効果的に耐えます。その低汚染特性により、LED エピタキシャル ウェーハの高歩留まりが確保され、また、従来の材料をはるかに上回る耐久性により、顧客の全体的な運用コストの削減に役立ち、エッチング プロセスの効率と一貫性を向上させるための信頼できる選択肢となっています。

Veteksemi ソリッド SiC フォーカス リングは、ウェーハエッジでの電場と空気の流れを正確に制御することにより、エッチングの均一性とプロセスの安定性を大幅に向上させます。シリコン、誘電体、化合物半導体材料の精密エッチングプロセスで広く使用されており、大量生産の歩留まりと長期にわたる信頼性の高い装置動作を確保するための重要なコンポーネントです。

VeteksemiconのCVD SICコーティンググラファイトシャワーヘッドは、半導体化学蒸気堆積（CVD）プロセス専用に設計された高性能コンポーネントです。高純度のグラファイトから製造され、化学蒸気堆積（CVD）炭化シリコン（SIC）コーティングで保護されているこのシャワーヘッドは、優れた耐久性、熱安定性、腐食プロセスガスに対する耐性を提供します。あなたのさらなる相談を楽しみにしています。

Veteksemiconによるシリコン炭化物コーティングウェーハホルダーは、MOCVD、LPCVD、高温アニーリングなどの高度な半導体プロセスの精度と性能のために設計されています。均一なCVD SICコーティングを備えたこのウェーハホルダーは、並外れた熱伝導率、化学的不活性、および機械的強度を保証します。