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CVD SICコーティングウェーハバレルホルダー
CVD SICコーティングエピタキシー受容者
ガンエピタキシーアンダーテイカー
TACコーティングされたウェーハ容疑者
高純度SICカンチレバーパドル
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Wafer Chuck
ウェーハ チャンクは、半導体プロセスにおけるウェーハ クランプ ツールであり、PVD、CVD、ETCH およびその他のプロセスで広く使用されています。Vetek Semiconductor のウェーハ チャックは、半導体製造において極めて重要な役割を果たし、高速で高品質な出力を可能にします。 Vetek Semiconductor は、社内製造、競争力のある価格設定、強力な研究開発サポートにより、精密部品の OEM/ODM サービスに優れています。お問い合わせをお待ちしております。
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ALD惑星受容器
ALDプロセスは、原子層エピタキシープロセスを意味します。 VETEK半導体およびALDシステムメーカーは、基板上に気流を均等に分布させるALDプロセスの高い要件を満たすSICコーティングALD惑星容疑者を開発および生産しました。同時に、当社の高純度CVD SICコーティングにより、その過程で純度が保証されます。私たちとの協力について話し合うためのようこそ。
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サポートをコーティングします
Vetek Semiconductorは、CVD SICコーティングとCVD TACコーティングの研究開発と工業化に焦点を当てています。 SICコーティング容疑者を例にとると、この製品は高精度、密なCVD SICコーティング、高温抵抗、強い耐食性で高度に処理されています。私たちへのあなたの問い合わせは大歓迎です。
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SIC結晶成長のためのCVD SICブロック
SIC結晶成長のためのCVD SICブロックは、Vetek半導体によって開発された新しい高純度原料です。入出力比が高く、高品質の大規模なシリコン炭化物単結晶を栽培できます。これは、今日の市場で使用されている粉末を交換するための第2世代の材料です。技術的な問題について議論するためのようこそ。
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SICクリスタル成長新技術
化学蒸気堆積(CVD)によって形成されるVetek半導体の超高純度炭化シリコン(sic)は、物理的蒸気輸送(PVT)によって炭化シリコン炭化物結晶の成長のためのソース材料として使用することをお勧めします。 SIC Crystal Growth New Technologyでは、ソース材料がるつぼに積み込まれ、種子結晶に昇華します。高純度CVD-SICブロックを使用して、SIC結晶の成長源として使用します。私たちとのパートナーシップを確立するためのようこそ。
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CVD SICシャワーヘッド
Vetek Semiconductorは、中国の大手CVD SICシャワーヘッドメーカーおよびイノベーターです。長年にわたってSIC材料に特化しています。中国であなたの長期パートナーになることを楽しみにしています。
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中国の専門家炭化ケイ素コーティングメーカーおよびサプライヤーとして、私たちは独自の工場を持っています。あなたの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要であるか、中国製の高度で耐久性のある炭化ケイ素コーティングを購入したい場合でも、メッセージを残すことができます。
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