炭化ケイ素コーティング

VTech Semiconductorは、AIXTRON反応器用のCVD SICコーティング部品の開発と商業化に取り組んでいます。例として、当社のSICコーティングカバーセグメントは、優れた腐食抵抗、化学的安定性、アプリケーションシナリオについて議論することを歓迎する密なCVD SICコーティングを生成するために慎重に処理されています。

MOCVD受容器は、惑星椎間板で特徴付けられ、エピタキシーの安定した性能のためにプロフェッションがあります。 Vetek Semiconductorは、この製品の機械加工とCVD SICコーティングの豊富な経験を持っています。実際のケースについて私たちとコミュニケーションをとることができます。

予熱リングは、半導体エピタキシープロセスでウェーハを予熱し、ウェーハの温度をより安定かつ均一にするために使用されます。これは、エピタキシー層の高品質な成長にとって非常に重要です。 Vetek Semiconductor は、高温での不純物の揮発を防ぐためにこの製品の純度を厳密に管理しています。詳しいご相談を歓迎します。

Vetek Semiconductorは、中国の大手EPIウェーハリフトピンメーカーおよびイノベーターです。私たちは長年にわたってグラファイトの表面でのSICコーティングに特化しています。 EPIプロセス用のEPIウェーハリフトピンを提供しています。高品質で競争力のある価格で、中国の工場を訪れることを歓迎します。

エピタキシーは、既存のチップ上で新しい結晶を栽培して新しい半導体層を作成するために半導体デバイス製造で使用される技術です。VetekSemiconductorは、LPEシリコンエピタキシー反応チャンバーの包括的なコンポーネントソリューションを提供し、長寿命、安定した品質、および改善されたエピタキシアルを提供します。層の収量。 SICコーティングバレル受容器などの当社の製品は、顧客からポジションフィードバックを受け取りました。また、SI EPI、SIC EPI、MOCVD、UV主導のエピタキシーなどの技術サポートも提供しています。価格情報についてお問い合わせください。

中国のトップ工場であるVetek Semiconductorは、精密機械加工と半導体SiCおよびTaCコーティング能力を兼ね備えています。バレル型Siエピサセプタは温度・雰囲気制御機能を備え、半導体エピタキシャル成長プロセスの生産効率を向上させます。貴社との協力関係を確立することを楽しみにしています。