炭化ケイ素コーティング

VeTek Semiconductor は超高純度の炭化ケイ素コーティング製品の製造を専門とし、これらのコーティングは精製グラファイト、セラミック、高融点金属コンポーネントに適用されるように設計されています。

当社の高純度コーティングは、主に半導体およびエレクトロニクス産業での使用をターゲットとしています。これらは、ウェーハキャリア、サセプタ、および加熱要素の保護層として機能し、MOCVD や EPI などのプロセスで遭遇する腐食性および反応性環境からそれらを保護します。これらのプロセスは、ウェーハ処理とデバイス製造に不可欠です。さらに、当社のコーティングは、高真空、反応性、酸素環境にさらされる真空炉やサンプル加熱での用途に適しています。

VeTek Semiconductor では、高度な機械工場の機能を備えた包括的なソリューションを提供します。これにより、グラファイト、セラミック、または高融点金属を使用して基本コンポーネントを製造し、社内で SiC または TaC セラミックコーティングを適用することが可能になります。また、お客様支給部品の塗装サービスも行っており、多様なニーズに柔軟に対応いたします。

当社の炭化ケイ素コーティング製品は、Siエピタキシー、SiCエピタキシー、MOCVDシステム、RTP/RTAプロセス、エッチングプロセス、ICP/PSSエッチングプロセス、青色LED、緑色LED、UV LED、深紫外などのさまざまなLEDタイプのプロセスで広く使用されています。 LPE、Aixtron、Veeco、Nuflare、TEL、ASM、Annialsys、TSIなどの機器に適合するLEDなど。

私たちができるリアクター部品:

炭化ケイ素コーティングにはいくつかのユニークな利点があります。

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek Semiconductor 炭化ケイ素コーティングのパラメータ

CVD SiCコーティングの基本物性
財産	代表値
結晶構造	FCC β 相多結晶、主に (111) 配向
SiCコーティングの密度	3.21 g/cm3
SiCコーティング硬度	ビッカース硬度 2500（500g荷重）
粒径	2～10μm
化学純度	99.99995%
熱容量	640J・kg^-1・K^-1
昇華温度	2700℃
曲げ強度	415MPa RT 4点
ヤング率	430 Gpa 4pt曲げ、1300℃
熱伝導率	300W・m^-1・K^-1
熱膨張(CTE)	4.5×10-6K^-1

CVD SIC膜の結晶構造

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

炭化ケイ素でコーティングされたエピサセプタ SiCコーティングウェーハキャリア MOCVD用SiCコートサテライトカバー CVD SiC コーティングウェーハエピサセプタ CVD SiCコーティング発熱体 Aixtron サテライトウェーハキャリア SiCコーティングエピレシーバー SiCコーティング半月型グラファイトパーツ

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LPE PE2061S用のSICコーティングトッププレート

VeTek Semiconductor は長年にわたり SiC コーティング製品に深く携わっており、中国における LPE PE2061S 用の SiC コーティングトッププレートの大手メーカーおよびサプライヤーとなっています。当社が提供する LPE PE2061S 用 SiC コーティングトッププレートは、LPE シリコンエピタキシャルリアクター用に設計されており、バレルベースとともに上部に配置されます。このLPE PE2061S用SiCコートトッププレートは、高純度、優れた熱安定性、均一性などの優れた特性を備えており、高品質なエピタキシャル層の成長に役立ちます。どのような製品でもお問い合わせをお待ちしております。

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LPE PE2061SのSICコーティングバレル受容器

中国の主要なウェーハ容量容疑者製造工場の1つとして、Vetek半導体はウェーハ容疑者製品で継続的な進歩を遂げており、多くのエピタキシャルウェーハメーカーにとって最初の選択肢となっています。 VETEK半導体が提供するLPE PE2061SのSICコーティングバレル受容器は、LPE PE2061S 4 ''ウェーハ向けに設計されています。受容器には、LPE（液相エピタキシー）プロセス中の性能と耐久性が向上する耐久性のある炭化シリコンコーティングがあります。お問い合わせをお願いします。長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

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ソリッドSiCガスシャワーヘッド

ソリッドSICガスシャワーヘッドは、CVDプロセスでガスの均一なものを作る上で大きな役割を果たし、それにより基質の均一な加熱を保証します。 Vetek Semiconductorは、長年にわたってソリッドSICデバイスの分野に深く関与しており、カスタマイズされたソリッドSICガスシャワーヘッドを顧客に提供することができます。あなたの要件が何であれ、私たちはあなたの問い合わせを楽しみにしています。

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化学蒸気沈着プロセス固体sic端リング

Vetek Semiconductorは、常に高度な半導体材料の研究開発と製造に取り組んできました。今日、Vetek半導体は、化学蒸気堆積プロセスソリッドSICエッジリング製品を大きく進歩させており、高度にカスタマイズされたソリッドSICエッジリングを顧客に提供することができます。ソリッドSICエッジリングは、静電チャックで使用すると、より良いエッチングの均一性と正確なウェーハの位置決めを提供し、一貫した信頼性の高いエッチング結果を確保します。あなたの問い合わせとお互いの長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

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ソリッドSICエッチングフォーカシングリング

固体SiCエッチング集束リングは、ウェーハエッチングプロセスの中核コンポーネントの1つであり、ウェーハを固定し、プラズマを集束させ、ウェーハエッチングの均一性を向上させる役割を果たします。中国の大手SiC集束リングメーカーとして、VeTek Semiconductorは高度な技術と成熟したプロセスを備えており、顧客の要件に応じて最終顧客のニーズを完全に満たす固体SiCエッチング集束リングを製造しています。私たちはあなたの問い合わせを楽しみにし、お互いの長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

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中国の専門家炭化ケイ素コーティングメーカーおよびサプライヤーとして、私たちは独自の工場を持っています。あなたの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要であるか、中国製の高度で耐久性のある炭化ケイ素コーティングを購入したい場合でも、メッセージを残すことができます。