炭化ケイ素コーティング

バレルタイプのエピタキシャルウェーハ加熱ベースは、複雑な加工技術を備えた製品であり、機器と能力を加工するのに非常に困難です。 Vetek Semiconductorは、EPIのSICコーティングされたグラファイトバレル受容器の処理における高度な機器と豊富な経験を持っています。元の工場寿命と同じ、より費用対効果の高いエピタキシャルバレルを提供できます。

SiC コーティングされたグラファイトるつぼデフレクターは、単結晶炉装置の重要なコンポーネントです。その役割は、溶融材料をるつぼから結晶成長ゾーンにスムーズに導き、単結晶成長の品質と形状を保証することです。Vetek 半導体は、グラファイトとSiCの両方のコーティング材料を提供します。詳細については、お気軽にお問い合わせください。

4 "ウェーハのMOCVDエピタキシャル受容器は、4"エピタキシャル層を栽培するように設計されています。Veteksemiconductorは、4 "ウェーハの高品質のMOCVDエピタキシャルセプターを提供することに専念しているプロのメーカーおよびサプライヤーです。私たちはお客様に専門家で効率的なソリューションを提供することができます。あなたは私たちとコミュニケーションをとることを歓迎します。

VeTek Semiconductor は、G5 用の高品質 GaN エピタキシャル グラファイト サセプタの提供に特化した専門メーカーおよびサプライヤーです。当社は国内外の数多くの有名企業と長期的かつ安定したパートナーシップを確立しており、お客様の信頼と尊敬を獲得しています。

Vetek半導体の半導体容疑者ブロックSICコーティングは、非常に信頼性が高く耐久性のあるデバイスです。安定した性能と長寿命を維持しながら、高温や過酷な化学環境に耐えるように設計されています。その優れたプロセス機能により、半導体感受性ブロックSICコーティングは、交換とメンテナンスの頻度を減らし、生産効率を改善します。私たちは、いつでも相談するためにあなたと協力する機会を楽しみにしています。

Vetek Semiconductorは、中国のカスタマイズされたUltra Pure Graphite Lower Halfmoonの大手サプライヤーであり、長年にわたって高度な材料を専門としています。当社のウルトラピュアグラファイト下ハーフムーンは、SICエピタキシャル機器用に特別に設計されており、優れた性能を確保しています。ウルトラピュアインポートグラファイトから作られ、信頼性と耐久性を提供します。中国の工場にアクセスして、高品質のウルトラピュアグラファイト下半日中ムーンを直接探索してください。いつでも相談してください。