Vetek Semiconductorは、長年の経験を持つEPIのSICコーティンググラファイトバレル受容器を主に生産する中国のメーカーおよびサプライヤーです。あなたとのビジネス関係を築きたいと思っています。EPI (エピタキシー)高度な半導体の製造における重要なプロセスです。これには、基板上に材料の薄層が堆積して、複雑なデバイス構造が作成されます。 EPIのSICコーティンググラファイトバレル受容器は、優れた熱伝導率と高温に対する耐性のため、EPI反応器の受容器として一般的に使用されます。とCVD-SiCコーティング、汚染、侵食、熱衝撃に対する耐性が高まります。これにより、サセプタの寿命が長くなり、膜の品質が向上します。
✔ 汚染の軽減:SICの不活性性は、不純物が容疑者の表面に付着することを防ぎ、堆積したフィルムの汚染のリスクを軽減します。 ✔ 耐浸食性の向上: SiC は従来のグラファイトよりも耐侵食性が大幅に優れているため、サセプタの寿命が長くなります。 ✔ 熱安定性の向上:SiCは熱伝導性に優れており、大きな歪みなく高温に耐えることができます。 ✔ 強化されたフィルム品質:熱安定性の改善と汚染の減少により、均一性と厚さの制御が改善された高品質の堆積膜が生じます。
✔ 汚染の軽減:SICの不活性性は、不純物が容疑者の表面に付着することを防ぎ、堆積したフィルムの汚染のリスクを軽減します。
✔ 耐浸食性の向上: SiC は従来のグラファイトよりも耐侵食性が大幅に優れているため、サセプタの寿命が長くなります。
✔ 熱安定性の向上:SiCは熱伝導性に優れており、大きな歪みなく高温に耐えることができます。
✔ 強化されたフィルム品質:熱安定性の改善と汚染の減少により、均一性と厚さの制御が改善された高品質の堆積膜が生じます。
✔GANベースのLED ✔ パワーエレクトロニクス ✔ 光電子デバイス ✔高周波トランジスタ ✔センサー
✔GANベースのLED
✔ パワーエレクトロニクス
✔ 光電子デバイス
✔高周波トランジスタ
✔センサー
注:コーティングの前に、コーティング後、最初の精製を行い、2回目の精製を行います。
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