炭化ケイ素コーティング

VeTek Semiconductor は超高純度の炭化ケイ素コーティング製品の製造を専門とし、これらのコーティングは精製グラファイト、セラミック、高融点金属コンポーネントに適用されるように設計されています。

当社の高純度コーティングは、主に半導体およびエレクトロニクス産業での使用をターゲットとしています。これらは、ウェーハキャリア、サセプタ、および加熱要素の保護層として機能し、MOCVD や EPI などのプロセスで遭遇する腐食性および反応性環境からそれらを保護します。これらのプロセスは、ウェーハ処理とデバイス製造に不可欠です。さらに、当社のコーティングは、高真空、反応性、酸素環境にさらされる真空炉やサンプル加熱での用途に適しています。

VeTek Semiconductor では、高度な機械工場の機能を備えた包括的なソリューションを提供します。これにより、グラファイト、セラミック、または高融点金属を使用して基本コンポーネントを製造し、社内で SiC または TaC セラミックコーティングを適用することが可能になります。また、お客様支給部品の塗装サービスも行っており、多様なニーズに柔軟に対応いたします。

当社の炭化ケイ素コーティング製品は、Siエピタキシー、SiCエピタキシー、MOCVDシステム、RTP/RTAプロセス、エッチングプロセス、ICP/PSSエッチングプロセス、青色LED、緑色LED、UV LED、深紫外などのさまざまなLEDタイプのプロセスで広く使用されています。 LPE、Aixtron、Veeco、Nuflare、TEL、ASM、Annialsys、TSIなどの機器に適合するLEDなど。

私たちができるリアクター部品:

炭化ケイ素コーティングにはいくつかのユニークな利点があります。

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek Semiconductor 炭化ケイ素コーティングのパラメータ

CVD SiCコーティングの基本物性
財産	代表値
結晶構造	FCC β 相多結晶、主に (111) 配向
SiCコーティングの密度	3.21 g/cm3
SiCコーティング硬度	ビッカース硬度 2500（500g荷重）
粒径	2～10μm
化学純度	99.99995%
熱容量	640J・kg^-1・K^-1
昇華温度	2700℃
曲げ強度	415MPa RT 4点
ヤング率	430 Gpa 4pt曲げ、1300℃
熱伝導率	300W・m^-1・K^-1
熱膨張(CTE)	4.5×10-6K^-1

CVD SIC膜の結晶構造

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

炭化ケイ素でコーティングされたエピサセプタ SiCコーティングウェーハキャリア MOCVD用SiCコートサテライトカバー CVD SiC コーティングウェーハエピサセプタ CVD SiCコーティング発熱体 Aixtron サテライトウェーハキャリア SiCコーティングエピレシーバー SiCコーティング半月型グラファイトパーツ

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VeTek Semiconductor is a China professional ALD Susceptor manufacturer. Vetek jointly developed and produced SiC-coated ALD planetary bases with ALD system manufacturers to meet the high requirements of the ALD process. Welcome your consultation.

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CVD SICコーティング天井

VeTek Semiconductor's CVD SiC coated ceiling has excellent properties such as high temperature resistance, corrosion resistance, high hardness, and low thermal expansion coefficient, making it an ideal material choice in semiconductor manufacturing. As a China leading CVD SiC coated ceiling manufacturer and supplier, VeTek semiconductor looks forward to your consultation.

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MOCVD EPI SUSCEPTER

VeTek Semiconductor is a professional manufacturer of MOCVD LED Epi Susceptor in China. our MOCVD LED Epi Susceptor is designed for demanding epitaxial equipment applications. Its high thermal conductivity, chemical stability and durability are key factors to ensure a stable epitaxial growth process and semiconductor film production.

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SICコーティングALD受容器

SICコーティングALD受容器は、原子層堆積（ALD）プロセスで特異的に使用されるサポートコンポーネントです。 ALD機器で重要な役割を果たし、堆積プロセスの均一性と精度を確保します。当社のALD惑星受容器製品は、高品質の製品ソリューションを提供できると考えています。

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CVD SICコーティングバッフル

VetekのCVD SICコーティングバッフルは、主にSiエピタキシーで使用されています。通常、シリコンエクステンションバレルで使用されます。 CVD SICコーティングバッフルのユニークな高温と安定性を組み合わせて、半導体製造における気流の均一な分布を大幅に改善します。当社の製品は、高度なテクノロジーと高品質の製品ソリューションを提供できると考えています。

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CVD SICグラファイトシリンダー

Vetek SemiconductorのCVD SIC Graphiteシリンダーは、半導体機器で極めて重要であり、高温および圧力設定の内部成分を保護するための原子炉内の保護シールドとして機能します。それは効果的に化学物質と極端な熱に対してシールドし、機器の完全性を維持します。例外的な摩耗と耐食性により、挑戦的な環境での長寿と安定性が保証されます。これらのカバーを使用すると、半導体デバイスのパフォーマンスが向上し、寿命が長くなり、メンテナンスの要件と損傷のリスクを軽減します。お問い合わせください。

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中国の専門家炭化ケイ素コーティングメーカーおよびサプライヤーとして、私たちは独自の工場を持っています。あなたの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要であるか、中国製の高度で耐久性のある炭化ケイ素コーティングを購入したい場合でも、メッセージを残すことができます。