Vetek Semiconductorは、中国のプロのメーカーであり、したがって、EPIが引き受けたEPIをコーティングしています。
Vetek半導体のSICコーティングEPI受容器は、グラファイトと炭化シリコンで作られています。このSICコーティング製品は、より安定したパフォーマンスと長いサービス寿命を備えた輸入グラファイトを使用しており、ヨーロッパとアメリカの顧客から非常に称賛されています。同時に、SICコーティングEPI受容器の濃度は5ppm未満であり、均一性は非常に良好です。連続的な技術的アップグレードの後、Vetek半導体は新しいプロセスを使用して、SICコーティングの熱膨張係数とグラファイト材料の間に良好な一致を形成します。
SICコーティングEPI受容器は、半導体機器の高温および腐食性環境で特別に使用されます。 SICコーティングEPI受容器は、特に深い紫外線エピタキシー(DUVエピタキシー)プロセスで、重要な役割を果たしているエピストロンなどの機器で一般的に使用されます。
深紫外エピタキシー (DUV エピタキシー) プロセスでは、SiC コーティング エピ サセプターの優れた高温耐性と耐食性と組み合わせて、SiC コーティング エピ サセプターは通常、エピタキシー プロセス中のキャリアとして AIXTRON 装置の反応チャンバーの周囲に設置されます。機器を損傷または汚染する。
このSICコーティングEPI受容器は、深い紫外線エピタキシー向けに設計されています。シリコン炭化物のコタンを厳密に制御し、グラファイトと炭化物コーティングの間の熱膨張係数の違いによって引き起こされる問題を減らすためにバッファー層技術を組み込み、製品の寿命を延ばします。現在、当社の製品は多くの称賛を受けており、国内市場で最高の称賛の1つとして認識されています。
VeTek Semiconductor は、SiC コーティング製品の業界リーダーとして、製品のカスタマイズ サービスと満足のいく製品価格をサポートしており、さらなるご相談をお待ちしております。
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