半導体フィールドのTACコーティング部品の特定のアプリケーションは何ですか？

炭化物（TAC）コーティングの物理的特性

半導体フィールドでの炭化物（TAC）コーティングの適用

1。エピタキシャル成長反応器成分

TACコーティングは、化学蒸気堆積（CVD）窒化ガリウム（GAN）エピタキシャルおよび炭化シリコン（SIC）のエピタキシャルの化学的蒸気堆積（CVD）反応器成分で広く使用されています。ウェーハキャリア、衛星皿、ノズル、センサー。これらのコンポーネントは、高温および腐食性環境で非常に高い耐久性と安定性を必要とします。 TACコーティングは、サービスの寿命を効果的に延長し、収量を改善できます。

2。単結晶成長成分

SIC、GAN、窒化アルミニウム（AIN）などの材料の単結晶成長プロセスでは、TACコーティングるつぼ、シードクリスタルホルダー、ガイドリング、フィルターなどの主要なコンポーネントに適用されます。 TACコーティングを備えたグラファイト材料は、不純物の移動を減らし、結晶の品質を改善し、欠陥密度を減らすことができます。

3。高温工業部品

TACコーティングは、抵抗加熱要素、噴射ノズル、シールドリング、ろう付けの備品などの高温産業用途で使用できます。これらのコンポーネントは、高温環境で優れた性能を維持する必要があり、TACの耐熱性と耐食性は理想的な選択です。

4。MOCVDシステムのヒーター

TACコーティンググラファイトヒーターは、金属有機化学蒸気堆積（MOCVD）システムで正常に導入されています。従来のPBNコーティングヒーターと比較して、TACヒーターは効率と均一性を向上させ、消費電力を削減し、表面放射率を低下させ、それにより整合性を向上させることができます。

5。ウェーハキャリア

TACコーティングされたウェーハキャリアは、SIC、AIN、GANなどの第3世代の半導体材料の調製において重要な役割を果たします。研究は、の腐食率を示していますTACコーティング高温のアンモニアと水素環境は、SICコーティング、これにより、長期使用において安定性と耐久性が向上します。