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CVDsic(化学蒸気堆積炭化シリコンシリコン)は、化学蒸気堆積によって製造された高純度の炭化炭化材料です。主に、半導体加工装置のさまざまなコンポーネントとコーティングに使用されます。 CVDsic素材優れた熱安定性、高硬度、低熱膨張係数、優れた化学腐食抵抗性を備えているため、極端なプロセス条件下で使用するのに理想的な材料になります。
CVDSIC材料は、高温、高度に腐食性の環境、および半導体製造プロセスにおける高機械ストレスを含むコンポーネントで広く使用されています。
● CVDSICコーティング
これは、高温、化学腐食、機械的摩耗によって基板が損傷するのを防ぐために、半導体加工装置の保護層として使用されます。
● SICウェーハボート
ウェーハの安定性とプロセスの均一性を確保するために、高温プロセス(拡散やエピタキシャルの成長など)でウェーハを運ぶと輸送に使用されます。
● SICプロセスチューブ
SICプロセスチューブは、主に拡散炉と酸化炉で使用され、シリコンウェーハの制御反応環境を提供し、正確な材料の堆積と均一なドーピング分布を確保します。
● SICカンチレバーパドル
SIC Cantileverパドルは、主に拡散炉や酸化炉でシリコンウェーハを運ぶまたはサポートするために使用され、ベアリングの役割を果たします。特に、拡散、酸化、アニーリングなどの高温プロセスでは、極端な環境でのシリコンウェーハの安定性と均一な処理が保証されます。
● CVDSICシャワーヘッド
これは、均一なガス分布とエッチング効果を確保するために、優れた腐食抵抗と熱安定性を備えた、プラズマエッチング機器のガス分布成分として使用されます。
● SICコーティングされた天井
機器反応室のコンポーネントは、高温および腐食性ガスによる損傷から機器を保護し、機器のサービス寿命を延長するために使用されます。
● シリコンエピタキシー受容者
シリコンエピタキシャル成長プロセスで使用されるウェーハキャリアは、ウェーハの均一な加熱と堆積品質を確保します。
化学蒸気堆積炭化ケイコン(CVD SIC)には、高温、腐食、高硬度に耐性のあるデバイスとコンポーネントの製造に主に使用される半導体処理における幅広い用途があります。
compret式環境での保護コーティング
関数:CVD SICは、半導体機器の主要成分の表面コーティングによく使用されます(succeptor、反応チャンバーの裏地など)。これらのコンポーネントは、高温環境で動作する必要があり、CVD SICコーティングは優れた熱安定性を提供して、高温損傷から基板を保護することができます。
利点:CVD SICの高い融点と優れた熱伝導率により、コンポーネントが高温条件下で長時間安定に動作し、機器のサービス寿命を延ばすことができます。
cor腐食防止アプリケーション
関数:半導体製造プロセスでは、CVD SICコーティングは、腐食性ガスと化学物質の侵食に効果的に抵抗し、機器とデバイスの完全性を保護できます。これは、フッ化物や塩化物などの高度に腐食性のガスを処理するために特に重要です。
利点:コンポーネントの表面にCVD SICコーティングを堆積することにより、腐食によって引き起こされる機器の損傷とメンテナンスコストを大幅に削減し、生産効率を改善することができます。
high強度と耐摩耗性のアプリケーション
関数:CVD SIC材料は、その硬度と機械的強度が高いことで知られています。これは、耐摩耗性と機械シール、荷重含有成分などの高精度を必要とする半導体成分で広く使用されています。これらのコンポーネントは、動作中に強い機械的応力と摩擦にさらされます。 CVD SICは、これらのストレスに効果的に抵抗し、デバイスの長寿命と安定した性能を確保できます。
利点:CVD SICで作られたコンポーネントは、極端な環境での機械的ストレスに耐えるだけでなく、長期使用後に寸法の安定性と表面仕上げを維持することもできます。
同時に、CVD SICはで重要な役割を果たしています主導のエピタキシャル成長、パワー半導体およびその他のフィールド。半導体製造プロセスでは、CVD SIC基質は通常として使用されますEPI受容器。それらの優れた熱伝導率と化学的安定性により、成長したエピタキシャル層はより高い品質と一貫性を備えています。さらに、CVD SICも広く使用されていますPSSエッチングキャリア, RTPウェーハキャリア, ICPエッチングキャリアなど、デバイスのパフォーマンスを確保するために、半導体エッチング中に安定した信頼できるサポートを提供します。
Vetek Semiconductor Technology Co.、Ltdは、半導体業界向けの高度なコーティング材料の大手プロバイダーです。当社は、業界向けの発展途上のソリューションに焦点を当てています。
主な製品には、CVD炭化物(SIC)コーティング、炭化物タンタルムコーティング、バルクSIC、SICパウダー、および高純度SIC材料、SICコーティンググラファイト容量、TACコーティングされた迂回リング、ハーフムーン、切断部品などがあります。
Vetek Semiconductorは、半導体業界向けの最先端の技術と製品開発ソリューションの開発に重点を置いています。私たちは中国であなたの長期パートナーになることを心から望んでいます.
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