CVD SICコーティンググラファイト容疑者

CVD SICコーティンググラファイト受容器は、半導体業界の高精度製造用に特別に設計されています。グラファイト基板は、CVDプロセスによって高純度SIC層でコーティングされており、優れた高温抵抗、耐性耐性、酸化抵抗を備えており、高温および真空環境で長時間安定して動作します。この台座は、MOCVD、PECVD、PVD、その他の機器で広く使用されており、ウェーハやその他の高精度材料の処理と取り扱いをサポートしています。

コアの利点：

● 高温の安定性：高純度のグラファイト自体は、優れた熱安定性を持っています。 SICコーティングでコーティングされた後、より高い温度の極端な環境に耐えることができ、半導体処理の高温プロセスに適しています。

● コーナーイオン抵抗：CVD SICコーティングは、酸およびアルカリの腐食に耐性があり、CVDプロセスで長いサービスの寿命をかける可能性があります。

● High hアードネスと酸化抵抗：CVD SICコーティングは、材料の安定性を維持するために、高温で優れた硬度、スクラッチ抵抗、酸化抵抗を持っています。

● 良好な熱伝導率：グラファイト基質とCVD SICコーティング受容装置の組み合わせにより、ベースは優れた熱伝導率を備えており、熱を効果的に実行し、生産効率を改善できます。

製品仕様：

● 材料：グラファイト基板 + CVD SICコーティング

● コーティングの厚さ：顧客のニーズに応じてカスタマイズできます

● 適用可能な環境：高温、真空、腐食性ガス環境

カスタマイズされたサービス：

顧客のさまざまな機器とプロセスのニーズを満たすために、高度にカスタマイズされたサービスを提供しています。顧客の特​​定のアプリケーションによると、異なるコーティングの厚さ、表面処理、精密レベルのグラファイト塩基を提供できます。

Veteksemiは常にCVD炭化シリコンコーティング業界で働いており、業界をリードするCVD SICコーティンググラファイトのベース生産と製造レベルを持っています。より多くの製品情報またはカスタマイズされたサービスが必要な場合は、Vetek Semiconductorにお問い合わせください。専門的なサポートを心から提供します。

CVD SICフィルムクリスタル構造のSEMデータ：

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