製品

固体炭化シリコン

Vetek半導体ソリッドシリコン炭化物は、プラズマエッチング装置の重要なセラミック成分、固体炭化シリコンです(CVD炭化シリコン)エッチング機器の部品には含まれますフォーカスリング、ガスシャワーヘッド、トレイ、エッジリングなど。塩素への固体炭化シリコン(CVD炭化物)の反応性と導電率が低いため、およびフッ素を含むエッチングガスは、リングやその他の成分に焦点を合わせたプラズマエッチング装置に理想的な材料です。


たとえば、フォーカスリングは、ウェーハの外側に配置され、ウェーハと直接接触する重要な部分であり、リングに電圧を適用してリングを通過するプラズマを焦点を合わせ、それにより加工の均一性を改善するためにウェーハにプラズマを集中させます。従来のフォーカスリングは、シリコンで作られています石英、導電性シリコンは一般的なフォーカスリング材料として、シリコンウェーハの導電率にほぼ近いですが、不足はフッ素を含むプラズマのエッチング抵抗が不十分であり、しばらくの間使用されるエッチング機の部品材料は、深刻な腐食現象があり、生産効率を深刻に減らします。


Solid sicフォーカスリング作業原則

Working Principle of Solid SiC Focus Ring


SIベースのフォーカスリングとCVD SICフォーカスリングの比較:

SIベースのフォーカスリングとCVD SICフォーカシングリングの比較
アイテム そして CVD sic
密度(g/cm3) 2.33 3.21
バンドギャップ(EV) 1.12 2.3
熱伝導率(w/cm℃) 1.5 5
CTE(x10-6/℃) 2.6 4
弾性率(GPA) 150 440
硬度(GPA) 11.4 24.5
摩耗と腐食に対する抵抗 貧しい 素晴らしい


Vetek Semiconductorは、SICのような高度な固体炭化シリコン(CVD Silicon Silicon)部品を、半導体機器のリングを集中させています。私たちの固体炭化シリコンフォーカシングリングは、機械的強度、化学耐性、熱伝導率、高温耐久性、イオンエッチング耐性の点で従来のシリコンよりも優れています。


SICフォーカスリングの主要な機能には含まれます:

エッチング速度の低下のための高密度。

高いバンドギャップを備えた優れた断熱。

高い熱伝導率と低係数の熱膨張係数。

優れた機械的衝撃耐性と弾力性。

硬度、耐摩耗性、耐食性。

使用して製造血漿強化化学蒸気堆積(PECVD)テクニック、当社のSICフォーカスリングは、半導体製造におけるエッチングプロセスのますます需要を満たしています。それらは、より高いプラズマの出力とエネルギーに耐えるように設計されています。容量的に結合した血漿(CCP)システム。

Vetek SemiconductorのSICフォーカシングリングは、半導体デバイスの製造において並外れたパフォーマンスと信頼性を提供します。優れた品質と効率性のために、SICコンポーネントを選択してください。


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ソリッドSICガスシャワーヘッドは、CVDプロセスでガスの均一なものを作る上で大きな役割を果たし、それにより基質の均一な加熱を保証します。 Vetek Semiconductorは、長年にわたってソリッドSICデバイスの分野に深く関与しており、カスタマイズされたソリッドSICガスシャワーヘッドを顧客に提供することができます。あなたの要件が何であれ、私たちはあなたの問い合わせを楽しみにしています。
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Vetek Semiconductorは、常に高度な半導体材料の研究開発と製造に取り組んできました。今日、Vetek半導体は、化学蒸気堆積プロセスソリッドSICエッジリング製品を大きく進歩させており、高度にカスタマイズされたソリッドSICエッジリングを顧客に提供することができます。ソリッドSICエッジリングは、静電チャックで使用すると、より良いエッチングの均一性と正確なウェーハの位置決めを提供し、一貫した信頼性の高いエッチング結果を確保します。あなたの問い合わせとお互いの長期的なパートナーになることを楽しみにしています。
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固体SiCエッチング集束リングは、ウェーハエッチングプロセスの中核コンポーネントの1つであり、ウェーハを固定し、プラズマを集束させ、ウェーハエッチングの均一性を向上させる役割を果たします。中国の大手SiC集束リングメーカーとして、VeTek Semiconductorは高度な技術と成熟したプロセスを備えており、顧客の要件に応じて最終顧客のニーズを完全に満たす固体SiCエッチング集束リングを製造しています。私たちはあなたの問い合わせを楽しみにし、お互いの長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.


Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.


Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.


To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.


中国の専門家固体炭化シリコンメーカーおよびサプライヤーとして、私たちは独自の工場を持っています。あなたの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要であるか、中国製の高度で耐久性のある固体炭化シリコンを購入したい場合でも、メッセージを残すことができます。
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