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ソリッドSiCガスシャワーヘッド

ソリッドSiCガスシャワーヘッド

ソリッドSICガスシャワーヘッドは、CVDプロセスでガスの均一なものを作る上で大きな役割を果たし、それにより基質の均一な加熱を保証します。 Vetek Semiconductorは、長年にわたってソリッドSICデバイスの分野に深く関与しており、カスタマイズされたソリッドSICガスシャワーヘッドを顧客に提供することができます。あなたの要件が何であれ、私たちはあなたの問い合わせを楽しみにしています。

ソリッドSiCガスシャワーヘッド


VeTek Semiconductor は、研究、生産、販売を専門とする総合企業です。 VeTek Semiconductor は、長年にわたり半導体エピタキシー、エッチング、その他のプロセス関連製品に取り組んでおり、特に CVD SiC コーティング、CVD TaC コーティング、および CVD Solid SiC は当社の主力製品です。


Vetek半導体ソリッドSICガスシャワーヘッドは、半導体CVDプロセス中に前駆ガスを基質表面に均等に分布させるために一般的に使用されます。シャワーヘッドにCVD-SIC材料を使用すると、いくつかの利点があります。その高い熱伝導率は、CVDプロセスで発生した熱を消散させ、基質の均一な温度分布を確保します。さらに、CVD SICシャワーヘッドの化学的安定性により、CVDプロセスで一般的に遭遇する腐食性ガスや過酷な環境に耐えることができます。 


CVD SICシャワーヘッドの設計は、特定のCVDシステムとプロセス要件に合わせて調整できます。ただし、通常、一連の精密装飾穴またはスロットを備えたプレートまたはディスク型コンポーネントで構成されています。穴のパターンとジオメトリは、基質表面上の均一なガス分布と流速を確保するために慎重に設計されています。


固体SICの物理的特性


固体SiCの物性
密度 3.21 グラム/センチメートル3
電気抵抗率 102 ω/cm
曲げ強度 590 MPA (6000kgf/cm2)
ヤングモジュラス 450 GPA (6000kgf/mm2)
ビッカース硬さ 26 GPA (2650kgf/mm2)
C.T.E.(RT-1000℃) 4.0 ×10-6/k
熱伝導率(RT) 250 w/mk



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