固体炭化シリコン

Vetek半導体ソリッドシリコン炭化物は、プラズマエッチング装置の重要なセラミック成分、固体炭化シリコンです（CVD炭化シリコン）エッチング機器の部品には含まれますフォーカスリング、ガスシャワーヘッド、トレイ、エッジリングなど。塩素への固体炭化シリコン（CVD炭化物）の反応性と導電率が低いため、およびフッ素を含むエッチングガスは、リングやその他の成分に焦点を合わせたプラズマエッチング装置に理想的な材料です。

たとえば、フォーカスリングは、ウェーハの外側に配置され、ウェーハと直接接触する重要な部分であり、リングに電圧を適用してリングを通過するプラズマを焦点を合わせ、それにより加工の均一性を改善するためにウェーハにプラズマを集中させます。従来のフォーカスリングは、シリコンで作られています石英、導電性シリコンは一般的なフォーカスリング材料として、シリコンウェーハの導電率にほぼ近いですが、不足はフッ素を含むプラズマのエッチング抵抗が不十分であり、しばらくの間使用されるエッチング機の部品材料は、深刻な腐食現象があり、生産効率を深刻に減らします。

Solid sicフォーカスリング作業原則：

Working Principle of Solid SiC Focus Ring

SIベースのフォーカスリングとCVD SICフォーカスリングの比較：

SIベースのフォーカスリングとCVD SICフォーカシングリングの比較
アイテム	そして	CVD sic
密度（g/cm³)	2.33	3.21
バンドギャップ（EV）	1.12	2.3
熱伝導率（w/cm℃）	1.5	5
CTE（x10^-6/℃）	2.6	4
弾性率（GPA）	150	440
硬度（GPA）	11.4	24.5
摩耗と腐食に対する抵抗	貧しい	素晴らしい

Vetek Semiconductorは、SICのような高度な固体炭化シリコン（CVD Silicon Silicon）部品を、半導体機器のリングを集中させています。私たちの固体炭化シリコンフォーカシングリングは、機械的強度、化学耐性、熱伝導率、高温耐久性、イオンエッチング耐性の点で従来のシリコンよりも優れています。

SICフォーカスリングの主要な機能には含まれます:

エッチング速度の低下のための高密度。

高いバンドギャップを備えた優れた断熱。

高い熱伝導率と低係数の熱膨張係数。

優れた機械的衝撃耐性と弾力性。

硬度、耐摩耗性、耐食性。

使用して製造血漿強化化学蒸気堆積（PECVD）テクニック、当社のSICフォーカスリングは、半導体製造におけるエッチングプロセスのますます需要を満たしています。それらは、より高いプラズマの出力とエネルギーに耐えるように設計されています。容量的に結合した血漿（CCP）システム。

Vetek SemiconductorのSICフォーカシングリングは、半導体デバイスの製造において並外れたパフォーマンスと信頼性を提供します。優れた品質と効率性のために、SICコンポーネントを選択してください。

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シリコン炭化物シャワーヘッドは、優れた高温耐性、化学物質の安定性、熱伝導率、良好なガス分布性能を備えており、均一なガス分布を達成し、フィルムの品質を向上させることができます。したがって、通常、化学蒸気堆積（CVD）や物理蒸気堆積（PVD）プロセスなどの高温プロセスで使用されます。 Vetek Semiconductor、私たちにあなたのさらなる相談を歓迎します。

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Vetek Semiconductorは、中国の大手CVD SICシャワーヘッドメーカーおよびイノベーターです。長年にわたってSIC材料に特化しています。中国であなたの長期パートナーになることを楽しみにしています。

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Vetek Semiconductorは、中国の主要なSICシャワーヘッドメーカーおよびイノベーターです。長年にわたってSIC材料に特化しています。SICシャワーヘッドは、優れた熱化学的安定性、高機械強度、プラズマ侵食に対する耐性のためにフォーカスリング素材として選択されています。

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Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.

Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.

Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.

To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.

中国の専門家固体炭化シリコンメーカーおよびサプライヤーとして、私たちは独自の工場を持っています。あなたの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要であるか、中国製の高度で耐久性のある固体炭化シリコンを購入したい場合でも、メッセージを残すことができます。