SICシーリングパーツ

SICシーリングパーツは、半導体処理において重要な役割を果たします。その優れた材料特性と信頼できるシーリング効果は、生産効率を改善するだけでなく、製品の品質と安全性を確保します。

炭化シリコンシーリングパーツの主な利点:

優れた腐食抵抗： 高度なセラミック材料の中で、Veteksemi SICシーリング部分は、酸性環境とアルカリ性環境で最高の腐食耐性を持っている可能性があります。この比類のない腐食抵抗により、SICシーリング部分が化学的に腐食性の環境で効果的に動作できるようになり、腐食性物質にしばしばさらされる産業では不可欠な材料になります。

軽量で強い：炭化シリコンの密度は約3.2 g/cm³であり、軽量のセラミック材料であるにもかかわらず、炭化シリコンの強度はダイヤモンドの強度に匹敵します。この軽さと強度の組み合わせにより、機械的コンポーネントの性能が向上し、それにより効率が向上し、産業用途の要求の厳しいアプリケーションの摩耗が減少します。 SICシーリングパーツの軽量性は、コンポーネントの取り扱いや設置を容易にします。

非常に高い硬度と高い熱伝導率： 炭化シリコンのMOHS硬度は9〜10です、ダイヤモンドに匹敵します。この特性は、高い熱伝導率（室温で約120〜200 w/m・k）と組み合わされており、SICシールが劣った材料を損傷する条件で機能します。 SICの優れた機械的特性は、最大1600°Cまでの温度で維持されており、SICシールが高温用途でも堅牢で信頼性が高いことを保証します。

高い硬度と耐摩耗性：炭化シリコンは、その結晶格子内の強力な共有結合によって特徴付けられ、高い硬度とかなりの弾性弾性率を与えます。これらの特性は、優れた摩耗抵抗につながり、長期使用後でも曲げたり変形の可能性を減らしたりします。これにより、SICは、連続的な機械的応力と研磨条件にさらされるSICシーリングパーツにとって優れた選択となります。

保護シリコン二酸化物層の形成： 酸素が豊富な環境で約1300°Cの温度にさらされると、炭化シリコンは保護的な二酸化シリコンを形成します（SIO₂）その表面に層を置きます。この層は障壁として機能し、さらなる酸化と化学的相互作用を防ぎます。 SIOとして₂層が厚くなり、さらに基礎となるsicが他の反応からさらに保護します。この自己制限酸化プロセスにより、SICは優れた耐薬品性と安定性をもたらし、SICシールを反応性および高温環境で使用するのに適しています。

高性能アプリケーションの汎用性:炭化シリコンのユニークな特性により、さまざまな高性能アプリケーションで多用途で効率的になります。機械的シールやベアリングから熱交換器やタービン成分まで、SICシールの極端な条件に耐え、その完全性を維持する能力は、高度なエンジニアリングソリューションで選択された材料になります。

Vetek Semiconductorは、半導体業界向けの高度な技術と製品ソリューションの提供に取り組んできました。さらに、当社のSIC製品にも含まれています炭化シリコンコーティング, 炭化シリコンセラミックそしてSICエピタキシープロセス製品。あなたのさらなる相談を歓迎します。

CVD SICフィルムクリスタル構造のSEMデータ：