Vetek半導体炭化シリコンウェーハチャックは、特に非常に高い精度と信頼性を必要とする半導体処理において、半導体生産の厳しい要件を満たすために、炭化シリコン材料の優れた特性を使用しています。
半導体処理プロセスでは、炭化シリコン優れた高温抵抗(最大1400°Cで安定して動作する可能性があります)、導電率が低いです導電率は比較的低く、通常は10^-3S/M)および低熱膨張係数(約4.0×10^-6/°C)、これは不可欠で重要な材料であり、特に炭化シリコンウェーハチャックの製造に適しています。
の間エピタキシャル成長プロセス、半導体材料の薄い層が基板に堆積されているため、均一で高品質のフィルム堆積層を確保するために、ウェーハからの絶対的な安定性が必要です。 SIC真空チャックは、ウェーハの動きや変形を防ぐために、しっかりした一貫した真空ホールドを作成することでこれを達成します。
シリコン炭化物ウェーハチャックは、熱ショックに対する優れた抵抗も提供します。急速な温度変化は半導体製造で一般的であり、これらの変動に耐えることができない材料は、割れたり、曲げたり、故障したりする可能性があります。炭化シリコンは熱膨張係数が低く、劇的な温度変化の下でも形状と機能を維持することができ、動きや誤りなしのエピタキシープロセス中にウェーハが安全なままであることを保証します。
さらに、エピタキシープロセス多くの場合、反応性ガスやその他の腐食性化学物質が含まれます。 SICウェーハチャックの化学的不活性は、これらの過酷な環境の影響を受けず、パフォーマンスを維持し、サービスの寿命を延ばします。この化学耐久性は、ウェーハチャックの交換の頻度を低下させるだけでなく、複数の生産サイクルで一貫した製品性能を保証し、半導体製造プロセスの全体的な効率と費用対効果を改善します。
Vetek Semiconductorは、中国のシリコンカーバイドウェーハチャック製品の大手メーカーおよびサプライヤーです。さまざまな種類のチャック製品を提供できます多孔質SICセラミックチャック, 多孔質SIC真空チャック, 多孔質セラミック真空チャックそしてTACコーティングチャックなど。VetekSemiconductorは、半導体業界に高度な技術と製品ソリューションを提供することに取り組んでいます。私たちは、中国であなたの長期的なパートナーになることを心から願っています。
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