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炭化シリコンセラミックコーティング
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炭化シリコンセラミックコーティング

中国のプロの炭化物シリコンセラミックコーティングメーカーおよびサプライヤーとして、Vetek半導体の炭化シリコンセラミックコーティングは、特にCVDおよびPECVDプロセスが関与している場合、半導体製造装置の主要なコンポーネントで広く使用されています。お問い合わせを歓迎します。

それは半導体です 炭化シリコンセラミックコーティング非常に硬く耐摩耗性のある炭化シリコン(SIC)材料で作られた高性能保護コーティングであり、優れた化学腐食抵抗と高温の安定性を提供します。これらの特性は半導体生産において重要であるため、炭化シリコンセラミックコーティングは、半導体製造装置の主要なコンポーネントで広く使用されています。


半導体生産におけるVetek半導体炭化物シリコンセラミックコーティングが果たす特定の役割はです次のように:

機器の耐久性を高めます:炭化シリコンセラミックコーティングは、非常に高い硬度と耐摩耗性を備えた半導体製造装置に優れた表面保護を提供します。特に、化学蒸気堆積(CVD)やプラズマエッチングなどの高温で非常に腐食性のプロセス環境では、炭化シリコンセラミックコーティングは、化学侵食または物理的な摩耗により機器表面への損傷を効果的に防ぐことができ、それにより機器のサービス寿命が大幅に延長され、頻繁な交換とメンテナンスによるダウンタイムの減少が可能になります。

プロセスの純度を改善します:半導体製造プロセスでは、小さな汚染が生成物の欠陥を引き起こす可能性があります。炭化シリコンセラミックコーティングの化学的不活性により、極端な条件下では安定したままになり、材料が粒子や不純物を放出するのを防ぎ、プロセス中に環境の純度を確保できます。これは、PECVDやイオン移植など、高精度と高い清潔さを必要とする製造手順にとって特に重要です。

熱管理を最適化します:迅速な熱処理(RTP)や酸化プロセスなどの高温半導体処理では、炭化シリコンセラミックコーティングの高い熱伝導率により、機器内の均一な温度分布が可能になります。これにより、温度の変動によって引き起こされる熱ストレスと材料の変形を軽減し、それにより製品の製造の精度と一貫性が向上します。

複雑なプロセス環境をサポート: ICPエッチングやPSSエッチングプロセスなどの複雑な大気制御を必要とするプロセスでは、炭化シリコンセラミックコーティングヒーターの安定性と酸化抵抗が長期的な動作で機器の安定した性能を保証し、環境の変化による材料の分解または機器の損傷のリスクを減らします。

それは半導体です製造と高性能の供給に焦点を当てています炭化シリコンセラミックコーティング、および半導体業界に高度な技術と製品ソリューションの提供に取り組んでいます。私たちは中国であなたの長期パートナーになりたいと心から望んでいます.


の基本的な物理的特性炭化シリコンセラミックコーティング:

CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE


Basic physical properties of CVD SiC coating


Vetek半導体炭化シリコンセラミックコーティングショップ:

VeTek Semiconductor Production Shop


半導体チップエピタキシー産業チェーンの概要:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain

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