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炭化シリコンセラミックコーティンググラファイトヒーター
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炭化シリコンセラミックコーティンググラファイトヒーター

Vetek Semiconductorの炭化シリコンセラミックコーティンググラファイトヒーターは、グラファイト基板で作られ、その表面上のシリコンカーボンセラミック(SIC)コーティングでコーティングされた高性能ヒーターです。複合材料設計により、この製品は半導体製造において優れた加熱溶液を提供します。お問い合わせを歓迎します。

それは半導体です 炭化シリコンセラミックコーティンググラファイトヒーターグラファイトの優れた電気的および熱伝導性と、シリコンカーボンセラミックコーティングの高温抵抗、耐食性、耐摩耗性を組み合わせており、過酷な半導体製造環境向けに設計されています。 

炭化シリコンセラミックコーティンググラファイトヒーター主に真空コーティング(蒸発)機器で使用され、一般的に使用される方法はPCD(血漿化学乾燥)およびPVD(物理的蒸気堆積)です。この製品は、技術の進歩を促進し、半導体業界の生産効率を改善する上で重要な役割を果たしてきました。私たちはあなたとのさらなる協力を心から楽しみにしています.


炭化シリコンセラミックコーティンググラファイトヒーターの材料と構造の特徴は次のとおりです:

グラファイト基板:グラファイトは、高い熱伝導率と低熱膨張係数で知られています。温度の変化に迅速に反応し、高温で構造の安定性を維持できます。

シリコンカーボンセラミックコーティング:SICコーティングは、化学蒸気またはその他の高度なプロセスを介してグラファイト表面に均等にコーティングされています。 SICは非常に高い硬度と化学腐食耐性を持ち、これにより、グラファイト基質を高温酸化および腐食環境から保護できます。


炭化シリコンセラミックコーティンググラファイトヒーターの特別な製品構造設計半導体処理プロセスにおけるこの製品のかけがえのない製品の利点:


効率的で均一な加熱:

熱伝導率:グラファイトの高い熱伝導率により、ヒーターは必要な温度に迅速に到達して維持でき、SICコーティングは熱の均一な分布を保証します。これは、迅速な熱処理(RTP)や化学蒸気堆積(CVD)などの正確な温度制御を必要とする半導体プロセスにとって特に重要です。

温度の均一性:均一な熱分布により、炭化物のセラミックコーティンググラファイトヒーターは、熱応力と温度勾配を効果的に減らし、加熱プロセス全体の半導体ウェーハの一貫性と品質安定性を確保できます。


腐食防止保護:

耐薬品性:SICコーティングの化学腐食抵抗により、ヒーターは腐食性ガスおよび化学環境で安定して長時間動作し、グラファイト基質の損傷を回避できます。この特徴は、化学蒸気堆積(CVD)や血漿増強化学蒸着(PECVD)などのプロセスで特に重要です。

酸化抵抗:高温では、SICコーティングはグラファイト基板の酸化を防ぎ、ヒーターのサービス寿命を延長し、機器のメンテナンスの頻度とコストを削減できます。


粒子の汚染を減らします:

表面の安定性:SICコーティングは耐摩耗性であるだけでなく、熱サイクリングや化学反応により粒子が材料表面から落ちるのを防ぎ、それにより、半導体の製造中に発生する可能性のある粒子汚染のリスクを減らし、高精度のプロセス環境を確保します。


プロセスの信頼性と効率を改善します:

ロングライフデザイン:グラファイトの機械的強度とSICコーティングの耐摩耗性の組み合わせにより、炭化物のセラミックコーティンググラファイトヒーターは、過酷なプロセス条件下で長期間高効率の動作を維持し、機器の全体的な信頼性を大幅に改善することができます。

効率的なエネルギー利用:グラファイトの高い熱伝導率とSICコーティングの高温安定性により、ヒーターは温度制御精度を改善しながらエネルギー消費を減らし、それにより半導体生産の全体的な効率を改善できます。


の基本的な物理的特性炭化シリコンセラミックコーティンググラファイトヒーター:

Basic physical properties of CVD SiC coating


それは半導体です炭化シリコンセラミックコーティンググラファイトヒーターショップ:

VeTek Semiconductor Production Shop


半導体チップエピタキシー産業チェーンの概要:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain/その他のプロセス


ホットタグ: 炭化シリコンセラミックコーティンググラファイトヒーター
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