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Vetek Semiconductorは、CVD SICコーティングとCVD TACコーティングの研究開発と工業化に焦点を当てています。 SICコーティング容疑者を例にとると、この製品は高精度、密なCVD SICコーティング、高温抵抗、強い耐食性で高度に処理されています。私たちへのあなたの問い合わせは大歓迎です。

私たちの工場からSICコーティング容疑者を購入することを安心できます。 CVD SICコーティングメーカーとして、Vetek半導体は、高純度グラファイトとSICコーティング容疑者(5ppm未満)で作られたSICコーティング容疑者を提供したいと考えています。


Vetek Semiconductorでは、技術研究、開発、製造を専門としており、業界向けのさまざまな高度な製品を提供しています。主な製品ラインには、CVD SICコーティング+高純度グラファイト、SICコーティング受容装置、半導体クォーツ、CVD TACコーティング+高純度グラファイト、剛性フェルト、およびその他の材料が含まれます。

当社の旗艦製品の1つは、エピタキシャルウェーハ生産の厳しい要件を満たすために革新的な技術を使用して開発されたSICコーティング受容装置です。エピタキシャルウェーハは、緊密な波長分布と低表面欠陥レベルを示し、SICコーティング受容体をこれらの重要なパラメーターを達成するための重要なコンポーネントにしなければなりません。

私たちのSICコーティング容疑者の利点:


baseベース材料保護:CVD SICコーティングは、エピタキシャルプロセス中に保護層として機能し、外部環境による侵食と損傷から基本材料を効果的に保護します。この保護尺度は、機器のサービス寿命を大幅に拡張します。

✔熱伝導率:当社のCVD SICコーティングには、優れた熱伝導率があり、基本材料からコーティング表面に熱を効率的に伝達します。これにより、エピタキシー中の熱管理効率が向上し、機器に最適な動作温度が確保されます。

filmフィルムの品質が向上しました:CVD SICコーティングは、平らで均一な表面を提供し、フィルム成長のための理想的な基盤を作り出します。格子の不一致に起因する欠陥を減らし、エピタキシャル膜の結晶性と品質を向上させ、最終的にそのパフォーマンスと信頼性を向上させます。


エピタキシャルウェーハの生産ニーズに合わせて、Vetek半導体SICコーティング受容装置を選択し、保護の強化、優れた熱伝導率、およびフィルム品質の向上から恩恵を受けます。 Vetek Semiconductorの革新的なソリューションを信頼して、半導体業界での成功を促進します。

CVD SICコーティングの基本的な物理的特性:

CVD SICコーティングの基本的な物理的特性
財産 典型的な値
結晶構造 FCCβ相多結晶、主に(111)配向
CVD SIC密度 3.21 g/cm³
CVD SICコーティングの硬度 2500ビッカーズの硬度(500g負荷)
穀物サイズ 2〜10mm
化学純度 99.99995%
熱容量 640 J・kg-1・k-1
昇華温度 2700℃
曲げ強度 415 MPA RT 4ポイント
ヤングモジュラス 430 GPA 4PTベンド、1300℃
熱伝導率 300W・m-1・k-1
熱膨張(CTE) 4.5×10-6K-1

Veteksemi sicコーティング容疑者生産ショップ:

SiC Coating Susceptor Production shops

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