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SiC コーティングサセプタ
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SiC コーティングサセプタ

Vetek Semiconductor は、CVD SiC コーティングと CVD TaC コーティングの研究開発と工業化に重点を置いています。 SiCコーティングサセプタを例にとると、製品は高精度、緻密なCVD SICコーティング、高温耐性、強力な耐食性で高度に加工されています。弊社へのお問い合わせは大歓迎です。

当社の工場からSiCコーティングサセプターを安心して購入できます。 VeTek Semiconductor は CVD SiC コーティング メーカーとして、高純度グラファイト製の SiC コーティング サセプターと SiC コーティング サセプター (5ppm 以下) を提供したいと考えています。お問い合わせを歓迎します。


Vetek Semiconductor では、技術の研究、開発、製造に特化し、業界向けにさまざまな先進製品を提供しています。当社の主な製品ラインには、CVD SiC コーティング + 高純度グラファイト、SiC コーティング サセプタ、半導体石英、CVD TaC コーティング + 高純度グラファイト、硬質フェルトなどがあります。

当社の主力製品の 1 つは、エピタキシャル ウェーハ製造の厳しい要件を満たす革新的な技術で開発された SiC コーティング サセプタです。エピタキシャル ウェーハは、厳密な波長分布と低い表面欠陥レベルを示す必要があるため、当社の SiC コーティング サセプタは、これらの重要なパラメータを達成するために不可欠なコンポーネントとなっています。

当社の SiC コーティングサセプターの利点:


✔ 基材の保護: CVD SiC コーティングはエピタキシャルプロセス中に保護層として機能し、外部環境による浸食や損傷からベース素材を効果的に保護します。この保護対策により、機器の耐用年数が大幅に延長されます。

✔ 優れた熱伝導性:当社のCVD SiCコーティングは優れた熱伝導率を有しており、基材の熱を効率よくコーティング表面に伝えます。これにより、エピタキシー中の熱管理効率が向上し、装置の最適な動作温度が確保されます。

✔ フィルム品質の向上: CVD SiC コーティングは平坦で均一な表面を提供し、膜成長のための理想的な基盤を作り出します。これにより、格子不整合に起因する欠陥が減少し、エピタキシャル膜の結晶性と品質が向上し、最終的にはその性能と信頼性が向上します。


エピタキシャル ウェーハ製造のニーズに合わせて Vetek Semiconductor SiC コーティング サセプタを選択すると、強化された保護、優れた熱伝導性、改善された膜品質のメリットが得られます。 VeTek Semiconductor の革新的なソリューションを信頼して、半導体業界での成功を推進してください。

CVD SiC コーティングの基本物性:

CVD SiCコーティングの基本物性
財産 代表値
結晶構造 FCC β 相多結晶、主に (111) 配向
CVD SiC 密度 3.21 g/cm3
CVD SiCコーティング 硬度 ビッカース硬度2500(500g荷重)
粒径 2~10μm
化学純度 99.99995%
熱容量 640J・kg-1・K-1
昇華温度 2700℃
曲げ強度 415MPa RT 4点
ヤング率 430 Gpa 4pt曲げ、1300℃
熱伝導率 300W・m-1・K-1
熱膨張(CTE) 4.5×10-6K-1

VeTekSemi SiC コーティング サセプターの製造ショップ:

SiC Coating Susceptor Production shops

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