多孔質炭化タンタル (TaC) コーティングされたグラファイト リング

製品の特徴

• 主要な機器:PVT 技術で動作する SiC 単結晶成長炉を対象としています。
• 主な用途:第3世代半導体SiC結晶成長における熱場システムに適しています。
• 高温安定性:TaC コーティングは超高温下でも構造の完全性を維持し、厳しい熱環境での長時間の動作をサポートします。
• 腐食保護:高密度の CVD TaC 層は、SiC の成長中に発生するシリコン蒸気、炭素含有ガス、その他の腐食種からグラファイト基板を保護します。
• 熱場の性能:多孔質グラファイトベースは熱分布と蒸気輸送を促進し、安定した成長条件の維持に役立ちます。
• 低汚染:高純度の出発原料と緻密なコーティングにより、不純物の放出と粒子の脱落が制限され、結晶の品質が向上します。
• 寿命の延長：TaC 層は、高温での耐酸化性、表面硬度、および全体的な耐久性を向上させます。
• コーティングの密着性:CVD プロセスにより、TaC フィルムとグラファイト基板の間に強力な結合が得られます。
• カスタムオプション:寸法、構造の詳細、コーティングの仕様は、さまざまな SiC 成長炉の要件に合わせて調整できます。

技術仕様

アプリケーション

VETEK 多孔質 TaC コーティング グラファイト リングは主に次の用途に使用されます。

• PVTによるSiC単結晶成長
• 第三世代の半導体製造
• SiC基板の製造
• 結晶成長炉の熱場システム
• 高温半導体処理
• 高度なグラファイトホットゾーンコンポーネント

よくある質問

1. 多孔質TaCコーティンググラファイトリングとは何ですか?

SiC結晶成長炉用熱場部品です。多孔質グラファイト構造と CVD TaC コーティングを組み合わせて、熱管理と高温腐食に対する保護を実現します。

2. SiC 結晶成長に TaC コーティングを使用する理由は何ですか?

TaC は高温安定性と耐薬品性を提供します。グラファイトをシリコン蒸気の攻撃から保護し、クリーンで安定した成長環境を維持するのに役立ちます。

3. 多孔質グラファイト構造は何を提供しますか?

多孔質設計は炉内の熱分布とガス輸送をサポートし、安定した SiC 結晶成長条件に貢献します。

4. VETEK はカスタマイズされた TaC コーティングされたグラファイト リングを製造できますか?

はい。 VETEK は、顧客の図面、炉の設計、寸法、基板構成、コーティング パラメータなどのプロセスのニーズに基づいたカスタマイズを提供します。