シリコンカーバイドSICウェーハボート

Veteksemicon SIC Wafer Boatは、高温半導体プロセス専用に設計されたコアキャリアです。高純度の等型のプレスグラファイトをその基質として利用して、この製品は特許取得済みの化学蒸気堆積技術を利用して、表面に密集した非多孔質炭化物保護層を形成します。

この層は、グラファイトの優れた熱伝導率と、炭化シリコンの例外的な腐食抵抗をシームレスに組み合わせています。厳密に制御されたコーティングは80〜120μmの厚さを達成し、さまざまな酸性およびアルカリ性大気からの腐食に効果的に抵抗し、金属汚染のリスクを大幅に減らします。高温環境でさえ構造の安定性と寸法の完全性を維持し、酸化、拡散、エピタキシャル成長などの重要なプロセス中にウェーハの信頼できる保護とサポートを提供し、ウェーハ寿命を従来のグラファイトボートの寿命を3倍以上拡張します。

ⅰ。技術的なパラメーター

ⅱ。 Veteksemicon sic Wafer Boat Coreの利点

• 優れた腐食抵抗

Veteksemicon WaferボートのSICコーティングは、当社の独自の高温CVDプロセスを使用して堆積し、その結果、毛穴や亀裂が完全にない密な均一な構造が生まれます。この固体障壁は、炉環境からウェーハを効果的に分離します。強い酸化雰囲気、フッ素化化合物、およびその他の腐食性ガスは、この保護層には不浸透性です。これは、ウェーハが汚染から保護されていることを意味しますが、ボート自体は繰り返される極端なプロセスを通じてそのまま残り、サービス寿命を大幅に延長します。

• 超高純度材料

わずかな汚染でさえ、ウェーハのバッチ全体を役に立たなくする可能性があることを理解しています。したがって、Veteksemiconは、基質として99.9995％を超える純度で輸入された等型のグラファイトを使用して、原材料を厳密に制御します。この基質に堆積したSICコーティングは、ナトリウム、カリウム、鉄、重金属などの重要な不純物を備えた99.999％の純度も達成しました（PPB）。この近皮に近い純度は、高温で汚染物質が放出されないことを保証し、キャリア関連の問題によるデバイスの性能劣化のリスクを根本的に排除します。

• 優れた熱安定性

半導体製造には、非常に一貫した熱プロセスが必要です。 Veteksemicon Wafer Boatの熱膨張係数は、シリコンウェーハのそれに密接に一致するように細心の注意を払って設計されています。迅速な暖房と冷却中、ボートとウェーハは同期して移動し、格子欠陥のリスクと熱ストレスによる反りのリスクを大幅に減らします。最大1600℃までの連続動作温度に耐えることができ、これらの高温でも優れた機械的強度と寸法の安定性を維持できます。これにより、すべてのプロセス実行で再現性と信頼性が保証され、チップ製造における耐性制御のための強固な基盤が提供されます。

• 耐久性のある機械的強度

当社の製品の価値は、初期投資だけでなく、所有権の長期コストにもあります。従来のクォーツまたはグラファイトコンポーネントと比較して、Veteksemicon SIC Waferボートは例外的な摩耗と耐衝撃性を提供します。彼らの高い表面の硬さは、取り扱いと掃除中に傷や破片に抵抗します。このタフネスにより、200を超える高温プロセスサイクルと必要な清掃手順に簡単に耐えることができ、頻繁なコンポーネント交換に関連する調達コスト、在庫コスト、および機器のダウンタイムを大幅に削減できます。

• 生態学的チェーン検証の承認

Veteksemicon SIC Wafer Boatの生態系チェーン検証は、原材料を生産にカバーし、国際標準認証に合格し、半導体および新しいエネルギー分野での信頼性と持続可能性を確保するための多くの特許取得済みの技術を持っています。

ⅲ。メインアプリケーションフィールド

詳細な技術仕様、ホワイトペーパー、またはサンプルテストの取り決めについては、テクニカルサポートチームに連絡して、Veteksemiconがプロセスの効率を高める方法を調査してください。

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