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シリコン炭化物ウェーハボート
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シリコン炭化物ウェーハボート

Vetek半導体の高純度炭化シリコンウェーハボートは、優れた熱安定性、機械的強度、耐薬品性を備えた非常に純粋な炭化物材料で作られています。高純度の炭化物ウェーハボートは、特に高温環境での半導体製造におけるホットゾーンアプリケーションで使用され、ウェーハの保護、材料の輸送、安定したプロセスの維持に重要な役割を果たします。 Vetek Semiconductorは、半導体製造の進化するニーズを満たすために、高純度の炭化シリコンウェーハボートのパフォーマンスを革新および改善するために懸命に取り組み続けます。中国であなたの長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

プロのメーカーとして、Vetek Semiconductorは、高品質の炭化シリコンウェーハボートを提供したいと考えています。

優れた熱性能:Vetek半導体の高純度炭化シリコンウェーハボートは、優れた熱性能を持ち、高温環境で安定しており、優れた熱伝導率を持ち、周囲をはるかに上回る温度で動作させます。これにより、高出力と高温の持久力アプリケーションに最適な高純度の炭化物ウェーハボートになります。

優れた腐食抵抗:高純度の炭化シリコンウェーハボートは、半導体製造のための重要なツールであり、さまざまな腐食剤に対して強い耐性を持っています。信頼できるキャリアとして、化学環境での高温と腐食の影響に耐え、炭化シリコンのウェーハの安全で効果的な処理を確保することができます。信頼できるキャリアとして、化学環境での高温と腐食の影響に耐え、炭化シリコンのウェーハの安全で効果的な処理を確保することができます。

寸法の完全性:焼結のプロセス中に高純度の炭化シリコンウェーハボートは縮小せず、寸法の完全性を維持し、部品をゆがんだり亀裂する可能性のある残留応力を排除します。これにより、正確な寸法を持つ複雑な形の部分を製造できます。半導体デバイスやその他の工業分野の製造であろうと、高純度の炭化物ウェーハボートは、部品が仕様を満たすことを保証するために信頼できる寸法制御を提供します。

汎用性の高いツールとして、Vetek半導体の高純度炭化シリコンウェーハボートは、エピタキシャルの成長や化学蒸気堆積など、さまざまな半導体製造技術に適用できます。その耐久性のある設計と非反応性の性質により、高純度の炭化シリコンウェーハボートはさまざまな加工化学に適しており、さまざまな処理環境にスムーズに適応できるようにします。

半導体の製造では、エピタキシャルの成長と化学蒸気堆積は、高品質のウェーハと薄膜を栽培するために使用される一般的なプロセスステップです。高純度のSICボートは、キャリアとして重要な役割を果たします。これは、高温と化学物質の影響に耐えて、正確な成長と堆積プロセスを確保することができます。

耐久性のあるデザインに加えて、高純度のSICボートも非反応性です。これは、化学物質の加工と悪影響を及ぼさず、それによってボートの完全性と性能を維持することを意味します。これにより、半導体メーカーは、生産プロセスで一貫性と再現性を確保するための信頼できるツールを提供します。


再結晶化された炭化シリコンの物理的特性

再結晶化された炭化シリコンの物理的特性
財産 典型的な値
作業温度(°C) 1600°C(酸素付き)、1700°C(環境の減少)
sicコンテンツ > 99.96%
無料のSIコンテンツ <0.1%
バルク密度 2.60-2.70 g/cm3
見かけの多孔性 <16%
圧縮強度 > 600 MPa
コールドベンディング強度 80-90 MPa(20°C)
熱い曲げ強度 90-100 MPA(1400°C)
熱膨張 @1500°C 4.70 10-6/°C
熱伝導率 @1200°C 23 w/m•k
弾性率 240 GPA
熱衝撃耐性 非常に良い


半導体生産ショップを比較:

VeTek Semiconductor Production Shop


半導体チップエピタキシー産業チェーンの概要:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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