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高純粋なシリコン炭化物ウェーハキャリア
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高純粋なシリコン炭化物ウェーハキャリア

Vetek半導体高純粋な炭化シリコンウェーハキャリアは、半導体処理の重要なコンポーネントであり、繊細なシリコンウェーハを安全に保持および輸送するように設計され、製造のすべての段階で重要な役割を果たします。 Vetek SemiconductorのHigh Pure Carbide Waferキャリアは、優れた性能と信頼性を確保するために慎重に設計および製造されています。 Vetek Semiconductorは、高品質の製品を競争力のある価格で提供することに取り組んでおり、中国で長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

Vetek Semiconductorは、高品質でリーズナブルな価格で、プロのリーダーChina High Silicon Carbide Carbide Carbide Carbide Waferキャリアメーカーです。お問い合わせください。

Vetek SemiconductorのHigh Pure Carbide Wafer Carrierは、プロセスチャンバー内でのスペース効率を最大化するために複数のウェーハ用に設計されたキャリアです。これらの高純度の炭化シリコンウェーハキャリアは通常、長方形または円筒形であり、各キャリアには、垂直方向の位置に単一のウェーハをしっかりと保持するために互いに分離された精密にマシンされたスロットまたは溝があります。高純粋な炭化物ウェーハキャリアは、高温、腐食性化学物質、および機械的ストレスに対して優れた耐性を持ち、潜在的な損傷からウェーハを保護するのに理想的です。これらは、処理中にウェーハの完全性と安全性を確保するために、高純度の炭化シリコン(sic)から製造されています。

高純粋な炭化物ウェーハキャリアは、拡散、RTP、サーマルフィールドなどの複雑なプロセスで重要な役割を果たし、ウェーハの安定したキャリアとして機能し、異なる機器とステージ間のシームレスな転送を実現します。その垂直構造は、プロセスチャンバーの床面積を最小限に抑え、生産スループットを最適化し、ウェーハの大きなバッチを効率的に処理できます。高純粋な炭化物ウェーハキャリアは、潜在的な損傷からウェーハを保護するための高温、腐食、および機械的強度に対する優れた耐性で知られています。

Vetek半導体の高純粋な炭化物ウェーハキャリアは、高純度の炭化シリコン(原文)で作られており、高温耐性、化学耐性耐性、および過酷な環境におけるウェーハの完全性を保護する機械的強度を備えています。慎重に設計された構造と正確に処理されたスロットにより、ウェーハが高精度処理のニーズを満たすためにしっかりと配置されるようになります。

Vetek Semiconductorは、高品質の製品と信頼できる技術サポートを顧客に提供することに取り組んでいます。ウェーハの成長、拡散、薄膜堆積、またはその他の重要なプロセスのいずれであっても、Vetek半導体の純粋な炭化シリコンウェーハキャリアは、製造プロセスの安定性と一貫性を確保する上で重要な役割を果たすことができます。中国であなたの長期パートナーになることを楽しみにしています。


高純粋なシリコン炭化物ウェーハキャリアの製品パラメーター

再結晶化された炭化シリコンの物理的特性
財産 典型的な値
作業温度(°C) 1600°C(酸素付き)、1700°C(環境の減少)
sicコンテンツ > 99.96%
無料のSIコンテンツ <0.1%
バルク密度 2.60-2.70 g/cm3
見かけの多孔性 <16%
圧縮強度 > 600 MPa
コールドベンディング強度 80-90 MPa(20°C)
熱い曲げ強度 90-100 MPA(1400°C)
熱膨張 @1500°C 4.70 10-6/°C
熱伝導率 @1200°C 23 w/m•k
弾性率 240 GPA
熱衝撃耐性 非常に良い


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