中国炭素繊維、炭化ケイ素セラミックス、炭化ケイ素エピタキシー - VeTek

製品

VeTek は中国の専門メーカーおよびサプライヤーです。当社の工場では、炭素繊維、炭化ケイ素セラミックス、炭化ケイ素エピタキシーなどを提供しています。当社の製品にご興味がございましたら、今すぐお問い合わせください。すぐにご連絡いたします。

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固体SICディスク型のシャワーヘッド

Vetek Semiconductorは、中国の大手半導体機器メーカーであり、ソリッドSICディスク型のシャワーヘッドの専門メーカーおよびサプライヤーです。ディスクシェイプシャワーヘッドは、反応ガスの均一な分布を確保するためにCVDプロセスなどの薄膜堆積生産で広く使用されており、CVD炉のコアコンポーネントの1つです。

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セラミック静電チャック

セラミック静電チャックは、ウェーハを固定するために半導体の製造と加工で広く使用されています。これは、高精度のウェーハ処理に不可欠なツールです。 Vetek Semiconductorは、セラミック静電チャックの経験豊富なメーカーおよびサプライヤーであり、さまざまな顧客のニーズに応じて高度にカスタマイズされた製品を提供できます。

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CVD SICコーティングウェーハバレルホルダー

CVD SICコーティングウェーハバレルホルダーは、MOCVDエピタキシャル成長炉で広く使用されているエピタキシャル成長炉の重要な成分です。 Vetek Semiconductorは、高度にカスタマイズされた製品を提供します。 CVD SICコーティングウェーハバレルホルダーのニーズが何であれ、ご相談ください。

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CVD SICコーティングバレル受容器

Vetek半導体CVD SICコーティングバレル容疑者はバレルタイプのエピタキシャル炉のコア成分です。CVDSICコーティングバレル受容器の助けを借りて、エピタキシャル成長の量と品質は大幅に改善されます。 Semiconductorは、半導体業界であなたとの緊密な協力関係を確立することを楽しみにしています。

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CVD SICコーティングウェーハEPI受容器

VETEK半導体CVD SICコーティングウェーハEPI受容器は、SICエピタキシー成長に不可欠な成分であり、優れた熱管理、耐薬品性、および寸法安定性を提供します。 VETEK半導体のCVD SICコーティングウェーハEPI容疑者を選択することにより、MOCVDプロセスのパフォーマンスを向上させ、高品質の製品と半導体製造業の効率を高めます。さらにお問い合わせください。

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過剰なグラファイト硬質フェルト

中国のハイパープアグラファイト硬質フェルト製品の大手メーカーおよびサプライヤーとして、Vetek半導体過剰グラファイトRigid Feltは、高温アプリケーション向けに設計された高性能グラファイトフェルト製品です。優れた熱絶縁と圧縮強度を持ち、半導体高温処理の分野で不可欠な材料です。あなたのさらなるお問い合わせへようこそ。

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