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高純度石英浴
ウェーハの洗浄、エッチング、ウェット エッチングの重要なステップでは、高純度石英バスは単なる容器ではありません。それはプロセスを成功させるための最初の防御線です。金属イオン汚染、熱衝撃亀裂、化学的攻撃、および粒子残留物が、収量変動の隠れた原因となります。 Veteksemi は半導体グレードのクォーツに深く根ざしています。当社が製造するすべての石英バスは、最先端のプロセスに妥協のない信頼性と清浄性を提供するように設計されています。
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炭化シリコンロボットアーム
当社の炭化シリコン(SIC)ロボットアームは、高度な半導体製造における高性能ウェーハの取り扱い用に設計されています。高純度の炭化シリコンで作られたこのロボットアームは、高温、プラズマ腐食、化学攻撃に対する並外れた耐性を提供し、厳しいクリーンルーム環境で信頼できる操作を確保します。その並外れた機械的強度と寸法安定性により、汚染リスクを最小限に抑えながら正確なウェーハの取り扱いが可能になり、MOCVD、エピタキシー、イオン移植、およびその他の重要なウェーハ処理アプリケーションに理想的な選択肢となります。お問い合わせをお願いします。
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カスタマイズされたクォーツウェーハボート
Veteksemiconは、半導体業界向けにカスタマイズされたQuartzウェーハボート製品の提供を専門としています。当社の製品ラインには、半導体融合クォーツガラスボート、クォーツ拡散ボート、カスタマイズされたクォーツアニーリングボートが含まれており、拡散、酸化、CVDなどの高精度プロセスで広く使用されています。 Veteksemiconは、製品と技術の包括的なカスタマイズされたサービスを提供することを主張しています。あなたのさらなる相談を楽しみにしています。
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シリコンカーバイドSICウェーハボート
Veteksemicon SICウェーハボートは、半導体製造における重要な高温プロセスで広く使用されており、シリコンベースの統合回路の酸化、拡散、およびアニーリングプロセスの信頼できるキャリアとして機能します。また、SICおよびGAN電源装置のエピタキシャル成長(EPI)や金属製の化学蒸気(MOCVD)などの要求の厳しいプロセスに完全に適した第3世代の半導体セクターにも優れています。また、太陽光発電産業における高効率太陽電池の高温製造をサポートしています。あなたのさらなる相談を楽しみにしています。
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CVD SICコーティンググラファイトシャワーヘッド
VeteksemiconのCVD SICコーティンググラファイトシャワーヘッドは、半導体化学蒸気堆積(CVD)プロセス専用に設計された高性能コンポーネントです。高純度のグラファイトから製造され、化学蒸気堆積(CVD)炭化シリコン(SIC)コーティングで保護されているこのシャワーヘッドは、優れた耐久性、熱安定性、腐食プロセスガスに対する耐性を提供します。あなたのさらなる相談を楽しみにしています。
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クォーツガス分布プレート
クォーツガス分布プレートとしても知られる石英シャワーヘッドは、CVD(化学蒸気堆積)、PECVD(プラズマ強化CVD)、ALD(原子層堆積)などの半導体薄膜堆積プロセスで使用される重要な成分です。高純度の融合クォーツから作られたこのコンポーネントは、超低低汚染と優れた熱安定性を保証し、ウェーハ表面全体で正確なガス送達と均一なフィルムの成長を可能にします。あなたのさらなる相談を楽しみにしています。
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