横型SiCウェーハキャリア

VeTek セミコンダクターの横型SiCウェーハキャリア/ボートは融点が非常に高い(約2700℃)ため、横型SiCウェーハキャリア/ボートは高温環境でも変形や劣化なく安定して動作します。この機能は、半導体製造プロセス、特に高温アニーリングや化学蒸着 (CVD) などのプロセスにおいて特に重要です。

The横型SiCウェーハキャリア/ボートは、ウェーハキャリアを搬送するプロセスにおいて、具体的には次の役割を果たします。

シリコンウェーハの搬送とサポート：水平方向のSICウェーハボートは、主に半導体製造中のシリコンウェーハを運ぶとサポートするために使用されます。複数のシリコンウェーハをしっかりと配置して、処理プロセス全体を通してそれらが良好な位置と安定性を保つことを保証できます。

均一な加熱と冷却：SICの熱伝導率が高いため、ウェーハボートはすべてのシリコンウェーハに熱を均等に効果的に分配できます。これは、高温処理中にシリコンウェーハの均一な加熱または冷却を実現し、処理プロセスの一貫性と信頼性を確保するのに役立ちます。

汚染を防ぎます: SiC の化学的安定性により、高温および腐食性ガス環境でも優れた性能を発揮できるため、シリコン ウェーハが汚染物質や反応物質にさらされる可能性が減り、シリコン ウェーハの純度と品質が確保されます。

実際、水平方向のSICウェーハボートは、そのユニークな製品特性のために上記の役割を果たすことができます。

優れた化学的安定性：SiC素材は様々な化学媒体に対して優れた耐食性を持っています。腐食性ガスまたは液体の処理プロセスにおいて、SiC ウェーハボートは化学的腐食に効果的に抵抗し、シリコンウェーハを汚染や損傷から保護します。

高い熱伝導率: SiC の高い熱伝導率は、キャリアプロセスで熱を均一に分散し、熱の蓄積を軽減します。これにより、精密加工時の温度制御精度が向上し、シリコンウェーハの均一な加熱・冷却が可能となります。

低熱膨張係数：SIC材料の熱膨張係数が低いことは、SICウェーハボートの寸法変化が温度変化中に非常に少ないことを意味します。これは、高温処理中に寸法の安定性を維持するのに役立ち、熱膨張によって引き起こされるシリコンウェーハの変形または位置変位を防ぎます。

横型SiCウエハキャリアの基本物性:

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