グラファイト回転サポート

ウェーハ容疑者は、エピタキシャル成長プロセスのために必須です。エピタキシャルの成長中、ウェーハ基質は容疑者に配置されます。Vetek半導体の高純度グラファイト回転容疑者は、高温および高真空環境の下で材料加工装置で使用されます。窒化ガリウム（MOCVDプロセス）のエピタキシャル成長では、基質の回転において支持的な役割を果たします。 Vetek半導体の回転グラファイト容疑者には、次の利点があります。

●高純度：高純度のグラファイト回転容疑者の不純物含有量は5ppm未満です。このレベルの純度グラファイトは、高温での不純物の放出を回避して、堆積プロセスの清潔さを確保することができます。したがって、作業要件を満たすためにコーティングは必要ありません。

高純度グラファイト

●優れた熱特性：高純度グラファイトは優れた熱伝導率を持ち、その熱伝導率は他の材料よりもはるかに高くなっています。熱膨張係数は小さく、温度変化を経験するときに安定した性能を維持できます。

●優れた機械的特性：高純度のグラファイトは、CVDプロセスの複雑な要件を満たすことができる耐摩耗性と靭性が良好です。

●優れた導電率：導電率は、一般的な非金属鉱物の導電率よりも100倍高い。

●化学的安定性：酸、アルカリ、有機溶媒からの腐食に抵抗することができます

さらに、中国の高純度グラファイト回転容疑者の大手メーカーおよびサプライヤーとして、Vetek半導体も高品質を供給していますMOCVDのSICコーティンググラファイト受容器, SICコーティングバレル受容器, TACコーティンググラファイトサポートそしてMOCVD SICコーティング受容剤.Vetek Semiconductorは、半導体業界向けの高度な技術と製品ソリューションの提供に取り組んでおり、カスタマイズされたサービスもサポートしています。中国であなたの長期パートナーになることを心から楽しみにしています。

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