EDMグラファイト電極

特別なグラファイト材料は、材料構造に基づいて2つのタイプに分けることができます。中密な構造グラファイトと細粒グラファイトです。中濃度の構造化グラファイトは、主に振動成形によって形成されます。これは、Vetek半導体によって提供されるEDMグラファイト電極であり、主に化学産業、金属製錬などで使用されます。

EDMグラファイト電極は振動法により作製されます。振動法では、振動テーブルを使用して粉末の入った容器を振動させ、粉末を緻密にします。通常、積層状態を改善し、製品の密度を高める目的を達成するために、振動成形中に粉末に重いハンマーを使用して小さな圧力を加えます。この成形法では粉末にかかる圧力が非常に小さいため、粒子の流動性が低く、優先配向が生じないため、振動成形で製造される黒鉛はほとんどが等方性グラファイト.

EDMグラファイト電極構造

EDMグラファイト電極の生産プロセス

● 最初にグラファイト原料を準備します：高純度のグラファイト粒子を選択し、異なる添加物を追加し、特定の割合で均等に混ぜます。

●  成形: 混合した材料をグラファイト振動成形装置に入れ、振動力によって目的の形状に圧縮します。このステップは振動成形プロセスの中核です。振動の周波数と振幅を制御することにより、グラファイトブランクの密度と構造を正確に制御できます。

●  乾燥: 形成されたグラファイトブランクを乾燥させて、その中の水分と揮発性物質を除去し、グラファイトブロックの安定性と耐久性を確保します。

●  仕上げ：乾燥したグラファイトブランクをさらに加工し、切断、トリミング、研削などを行い、必要なグラファイトブロックのサイズと形状を取得します。

EDMグラファイト電極は、冶金産業に処理されます

Vetek Semiconductorは、大量のEDMグラファイト電極を供給し、多くの異なる製品に処理できます。詳細については、ご相談ください。

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