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TACコーティング回転容疑者
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TACコーティング回転容疑者

プロのメーカーとして、中国のTACコーティング回転容疑者製品の革新者、リーダー。 VETEK半導体TACコーティング回転容疑者は、通常、化学蒸気堆積(CVD)および分子ビームエピタキシー(MBE)機器に取り付けられ、均一な材料堆積と効率的な反応を確保するためにウェーハをサポートおよび回転させます。半導体処理の重要なコンポーネントです。あなたのさらなる相談を歓迎します。

Vetek半導体TACコーティング回転容疑者は、半導体処理におけるウェーハ処理の重要なコンポーネントです。そのタック何私たちの優れた高温耐性(3880°Cまでの融点)、化学的安定性、耐食性があり、ウェーハ処理における高精度と高品質を確保しています。


TACコーティング回転容疑者(Tantalum炭素コーティング回転容疑者)は、半導体処理で使用される重要な機器コンポーネントです。通常、インストールされます化学蒸着(CVD)分子ビームエピタキシー(MBE)機器は、均一な材料の堆積と効率的な反応を確保するためにウェーハをサポートおよび回転させます。このタイプの製品は、基板をでコーティングすることにより、高温および腐食性環境での機器のサービス寿命とパフォーマンスを大幅に向上させますタンタル炭素(TAC)コーティング.


TACコーティング回転容疑者は通常、基質材料としてTACコーティングとグラファイトまたは炭化シリコンで構成されています。 TACは、非常に高い融点(3880°Cまでの融点)、硬度(ビッカースの硬度は約2000 Hk)、優れた化学耐性耐性を持つ超高温セラミック材料です。 Vetek半導体は、CVDテクノロジーを介して基板材料のタンタル炭素コーティングを効果的かつ均等にカバーできます。

回転容疑者は通常、高い熱伝導率と高強度材料で作られています(グラファイトまたは炭化シリコン)、高温環境で優れた機械的サポートと熱安定性を提供できます。 2つの完璧な組み合わせにより、ウェーハのサポートと回転式のTACコーティング回転容疑者の完全な性能が決まります。


TACコーティング回転容疑者は、CVDプロセスでウェーハをサポートおよび回転させます。 TACのビッカーズの硬度は約2000 hkであるため、材料の繰り返し摩擦抵抗に抵抗し、適切なサポート役割を果たすことができ、それにより、反応ガスがウェーハ表面に均等に分布し、材料が均等に堆積されるようにします。同時に、TACコーティングの高温耐性と腐食抵抗により、それを高温および腐食性の雰囲気で長時間使用することができ、ウェーハとキャリアの汚染を効果的に回避します。


さらに、TACの熱伝導率は21 w/m・Kであり、これには良好な熱伝達があります。したがって、TACコーティング回転容疑者は、高温条件下でウェーハを均等に加熱し、回転運動を通じてガス堆積プロセスの均一性を確保し、それによって一貫性と高品質の高品質を維持することができます。ウェーハの成長.


微視的な断面の炭化物(TAC)コーティング

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4


TACコーティングの物理的特性


TACコーティングの物理的特性
密度
14.3(g/cm³)
特定の放射率
0.3
熱膨張係数
6.3*10-6/k
硬度(hk)
2000 HK
抵抗
1×10-5オーム*cm
熱安定性
<2500℃
グラファイトサイズの変更
-10〜-20um
コーティングの厚さ
≥20um典型的な値(35um±10um)



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