TaCコーティングヒーター

Vetek半導体TACコーティングヒーターの融点は非常に高い（約3880°C）です。高い融点により、特に窒化ガリウム（GAN）エピタキシャル層の成長が金属有機化学蒸気（MOCVD）プロセスにおける成長で、非常に高温で動作することができます。 Vetek Semiconductorは、顧客にカスタマイズされた製品ソリューションを提供することに取り組んでいます。ご連絡をお待ちしております。

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製品説明

TACコーティングヒーターは、半導体製造プロセスで広く使用されている高性能加熱要素です。その表面は、タンタルム炭化物（TAC）材料でコーティングされており、ヒーターに優れた高温抵抗、化学耐性耐性、優れた熱伝導率を与えます。

半導体製造におけるTACコーティングヒーターの主な用途には、以下が含まれます。

nit窒化ガリウム（GAN）エピタキシャル成長プロセス中、TACコーティングヒーターは、正確に制御された高温環境を提供し、エピタキシャル層が均一な速度と高品質で基板に堆積するようにします。その安定した熱出力は、薄膜材料の正確な制御を実現するのに役立ち、それによりデバイスの性能が向上します。

さらに、金属有機化学蒸気堆積（MOCVD）プロセスと、TACコーティングの高温抵抗と熱伝導率と組み合わせて、TACコーティングヒーターは通常、反応ガスを加熱するために使用され、均一な熱分布を提供することにより、基質表面での化学反応を促進し、それによりエピタキシャル層の均一性を改善し、高品質の膜を形成します。

✔ TaC コーティングヒーター製品の業界リーダーとして、VeTek Semiconducto は常に製品のカスタマイズサービスと満足のいく製品価格をサポートします。お客様の具体的な要件が何であれ、当社はお客様の TaC コーティングヒーターのニーズに最適なソリューションをご提案いたしますので、いつでもご相談をお待ちしております。