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TaC コーティングされたグラファイト ウェーハ キャリア
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TaC コーティングされたグラファイト ウェーハ キャリア

VeTek Semiconductor は、お客様向けに TaC コーティングされたグラファイト ウェーハ キャリアを慎重に設計しました。高純度グラファイトとTaCコーティングで構成されており、各種ウエハエピタキシャルウエハの加工に適しています。当社は長年にわたりSiCおよびTaCコーティングに特化してきました。 SiC コーティングと比較して、当社の TaC コーティングされたグラファイト ウェーハ キャリアは、より高い耐熱性と耐摩耗性を備えています。私たちは、お客様の中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

VeTek Semiconductor のカスタマイズされた TaC コーティング グラファイト ウェーハ キャリアを安心して購入できます。ご協力をお待ちしております。詳しく知りたい場合は、今すぐご相談ください。すぐにご返信いたします。

Vetek半導体TACコーティンググラファイトウェーハキャリアは、エピタキシー反応器のウェーハと直接相互作用し、効率とパフォーマンスを向上させます。炭化シリコンまたは炭化物コーティングのオプションにより、vetek半導体TACコーティンググラファイトウェーハキャリアは、炭化物のタンタルで最大2〜3倍長く延長された寿命を提供します。 LPE SICエピタキシー炉、JSG、NASOエピタキシャル炉など、さまざまな機械モデルと互換性があります。

VeTek Semiconductor TaC コーティングされたグラファイト キャリアは、正確な反応化学量論を保証し、不純物の移行を防止し、2000°C を超えても温度安定性を維持します。 H2、NH3、SiH4、Si に対して優れた耐性を示し、過酷な化学環境から保護します。熱衝撃に耐えるため、コーティングの剥離を生じることなく、高速な動作サイクルが可能になります。

Vetek半導体TACコーティングは、超高純度を保証し、不純物を排除し、厳しい寸法許容範囲を満たす適切なカバレッジを保証します。 Vetek Semiconductorの高度なグラファイト処理機能により、カスタマイズのニーズを満たすために装備されています。コーティングサービスや包括的なソリューションが必要かどうかにかかわらず、当社の専門家エンジニアチームは、特定のアプリケーションに最適なソリューションを設計する準備ができています。お客様の要件と期待に合わせて調整された高品質の製品を提供するために私たちを信頼してください。


PVT法SiC結晶成長:

PVT method SiC Crystal Growth


TaCコーティンググラファイトウェーハキャリアの製品パラメータ

TaCコーティングの物性
密度 14.3 (g/cm3)
特定の放射率 0.3
熱膨張係数 6.3 10-6/k
硬度(hk) 2000 香港
抵抗 1×10-5オーム*cm
熱安定性 <2500℃
グラファイトサイズの変更 -10〜-20um
膜厚 ≥20um典型的な値(35um±10um)


半導体生産ショップを比較:

VeTek Semiconductor Production Shop


半導体チップエピタキシー産業チェーンの概要:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


ホットタグ: TACコーティンググラファイトウェーハキャリア
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