CVD TACコーティングるつぼ

TACコーティング回転容疑者は、CVDやMBEなどの高温沈着プロセスで重要な役割を果たし、半導体製造におけるウェーハ処理の重要なコンポーネントです。その中で、TACコーティング優れた高温抵抗、耐食性、化学的安定性があり、ウェーハ処理中に高精度と高品質を保証します。

CVD TACコーティングるつぼは通常、TACコーティングと黒鉛基板。その中で、TACは最大3880°Cの融点を持つ高融点セラミック材料です。それは非常に高い硬度（2000 hvまでの蒸気硬度）、化学耐性耐性、および強い酸化抵抗を持っています。したがって、TACコーティングは、半導体処理技術における優れた高温耐性材料です。

グラファイト基板は、良好な熱伝導率（熱伝導率は約21 w/m・k）と優れた機械的安定性を持っています。この特性は、グラファイトが理想的なコーティングになることを決定します基板.

CVD TACコーティングるつぼは、主に次の半導体処理技術で使用されています:

ウェーハ製造：Vetek半導体CVD TACコーティングるつぼは、優れた高温抵抗（3880°Cまでの融点）と耐食性を備えているため、高温蒸気堆積（CVD）やエピタキシャル成長などのキーウェーハ製造プロセスでよく使用されます。超高温環境における製品の優れた構造安定性と組み合わせることで、非常に過酷な条件下で機器が長時間安定して動作できるようになり、それによりウェーハの生産効率と品質が効果的に向上します。

エピタキシャル成長プロセス：次のようなエピタキシャルプロセス化学蒸着（CVD）分子ビームエピタキシー（MBE）、CVD TACコーティングるつぼは、運ぶのに重要な役割を果たします。そのTACコーティングは、極端な温度と腐食性の大気中の材料の高い純度を維持するだけでなく、材料に対する反応物の汚染と反応器の腐食を効果的に防ぎ、生産プロセスと製品の一貫性の精度を確保します。

中国の大手CVD TACコーティングるつぼ製造業者およびリーダーとして、Vetek Semiconductorは、機器とプロセスの要件に応じてカスタマイズされた製品と技術サービスを提供できます。私たちは、中国であなたの長期的なパートナーになることを心から願っています。

微視的な断面の炭化物（TAC）コーティング：

TACコーティングの物理的特性：

それは半導体です CVD TACコーティングクルーシブルショップ：