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縦型炉SiCコートリング
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縦型炉SiCコートリング

縦型炉用Si​​Cコートリングは、縦型炉用に特別に設計された部品です。 VeTek Semiconductor は、材料と製造プロセスの両方の点でお客様に最善を尽くします。中国の縦型炉 SiC コーティング リングの大手メーカーおよびサプライヤーとして、VeTek Semiconductor は最高の製品とサービスを提供できると確信しています。

縦型炉では、SiC コーティングされたリングの使用が一般的なソリューションであり、主に炉の高温熱処理プロセスで使用されます。半導体ウェーハ。縦型炉の SiC コーティングされたリングは、プロセスの安定性と信頼性を確保するためにウェーハを支持または保護するために使用される高性能、高温耐性のコンポーネントです。


縦型炉SiCコートリングの機能

● 機能

サポート役割。ウェーハをサポートするために使用されて、高温炉での安定性と正確な位置を確保します。

●  腐食防止

腐食性ガスや薬品による母材の腐食を防ぎます。

●  汚染を減らします

高純度 SiC コーティングは粒子の脱落や不純物の汚染を効果的に防止し、プロセスの清浄度を確保します。

●  高温耐性

高温環境で優れた機械的特性と寸法の安定性を維持します(通常は1000°Cを超える)。


垂直炉SICコーティングリングの特徴

●  高い硬度と強さ

SiC 材料は機械的強度に優れており、炉内の高温ストレスに耐えることができます。

●  良好な熱安定性

SiC の高い熱伝導率と低い熱膨張係数は、熱応力の軽減に役立ちます。

●  強力な化学的安定性

SiC コーティングは、酸化環境、酸性環境、またはアルカリ性環境での腐食に耐性があります。

●  低い粒子汚染

滑らかな表面は、粒子生成の可能性を低下させます。これは、半導体製造の超クリーン環境に特に適しています。


シリコンウェーハをサポートし、熱処理中の粒子汚染を防ぐために、垂直炉での拡散、酸化、アニーリング、およびその他のプロセスに使用されます。


製造材料とプロセス

●基板:高品質のSGLグラファイトで作られているため、品質が保証されています。

●コーティング:炭化シリコンコーティングは、化学蒸気堆積(CVD)によってグラファイト表面に適用されます。

● コーティングの厚さは通常50〜500μmであり、使用要件に応じて調整されます。

● 化学蒸着SiCコーティングは純度と密度が高く、耐久性も優れています。


適切なものを選択しますSiCコーティング炉内のシリコンウェーハの直径とキャリアの仕様に応じてリングを調整します。あなたに合わせてカスタマイズできます。高純度で緻密なコーティングは耐久性が高く、汚染が少ないです。コーティングの経年劣化による汚染やサポートの故障を避けるために、使用頻度やプロセス要件に応じて定期的に交換してください。


中国のプロの垂直炉SICコーティングリングサプライヤーおよびメーカーとして、Vetek半導体は、半導体業界向けの高度な垂直炉技術と製品ソリューションの提供に長い間取り組んできました。中国であなたの長期パートナーになることを心から楽しみにしています。


CVD SICフィルムクリスタル構造

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE


CVD SICコーティングの基本的な物理的特性


CVD SICコーティングの基本的な物理的特性
財産
典型的な値
結晶構造
FCC β 相多結晶、主に (111) 配向
SICコーティング密度
3.21 g/cm³
SiC コーティングの硬度
2500ビッカーズの硬度(500g負荷)
穀物サイズ
2~10μm
化学純度
99.99995%
熱容量
640 J・kg-1・k-1
昇華温度
2700℃
曲げ強度
415MPa RT 4点
ヤング率
430 GPA 4PTベンド、1300℃
熱伝導率
300W・m-1・k-1
熱膨張(CTE)
4.5×10-6K-1

それは半導体です縦型炉 SiC コーティングリング ショップ:

Semiconductor EquipmentGraphite epitaxial substrateSiC coated ring assemblySemiconductor process equipment

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