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 - ファックス- +86-579-87223657 
 
 - 住所- 中国浙江省金華市武夷県紫陽街Wangda Road 
 
            VeTek Semiconductor は、半導体処理分野における革新的なパートナーです。半導体グレードの炭化ケイ素セラミック材料の組み合わせ、コンポーネント製造能力、アプリケーション エンジニアリング サービスの広範なポートフォリオにより、当社はお客様が重大な課題を克服できるよう支援します。エンジニアリング技術 炭化ケイ素セラミックスは、その優れた材料性能により、半導体業界で広く応用されています。 VeTek Semiconductor の超高純度炭化ケイ素セラミックは、半導体の製造と処理のサイクル全体を通じて頻繁に使用されます。
		
	
VeTek Semiconductor は、バッチ拡散および LPCVD 要件に合わせて特別に設計された、次のようなエンジニアリング セラミック コンポーネントを提供します。
• バッフルとホルダー
• インジェクター
• ライナーとプロセスチューブ
• 炭化ケイ素カンチレバーパドル
• ウェーハボートと台座
		
	
		  SiCカンチレバーパドル
 SiCカンチレバーパドル    SiCプロセスチューブ
 SiCプロセスチューブ    炭化ケイ素プロセスチューブ
 炭化ケイ素プロセスチューブ    SiC縦型ウェーハボート
 SiC縦型ウェーハボート    SiC横型ウェーハボート
 SiC横型ウェーハボート    SiC横型スクエアウエハーボート
 SiC横型スクエアウエハーボート    SiC LPCVDウエハボート
 SiC LPCVDウエハボート    SiC横板ボート
 SiC横板ボート    SiCセラミックシールリング
 SiCセラミックシールリング  
	
		
	
厳格なプラズマ エッチング処理に合わせて設計された次のような高純度コンポーネントにより、汚染と予定外のメンテナンスを最小限に抑えます。
フォーカスリング
ノズル
シールド
シャワーヘッド
窓・蓋
その他のカスタムコンポーネント
				 
 
			
		
	
VeTek Semiconductor は、半導体業界の高温熱処理用途に合わせた高度な材料コンポーネントを提供します。これらのアプリケーションには、RTP、Epi プロセス、拡散、酸化、アニーリングが含まれます。当社のテクニカル セラミックは熱衝撃に耐えるように設計されており、信頼性の高い一貫したパフォーマンスを提供します。 VeTek Semiconductor のコンポーネントを使用することで、半導体メーカーは効率的かつ高品質の熱処理を実現でき、半導体製造の全体的な成功に貢献します。
• ディフューザー
• 絶縁体
• サセプター
• その他のカスタム熱コンポーネント
				 
 
			
		
	
| 再結晶炭化ケイ素の物性 | |
| 財産 | 代表値 | 
| 使用温度(℃) | 1600℃(酸素あり)、1700℃(還元雰囲気) | 
| SiC / SiC含有量 | > 99.96% | 
| Si / フリー Si コンテンツ | < 0.1% | 
| かさ密度 | 2.60~2.70g/cm3 | 
| 見かけの気孔率 | < 16% | 
| 圧縮強度 | > 600MPa | 
| 冷間曲げ強度 | 80~90MPa(20℃) | 
| 熱間曲げ強度 | 90~100MPa(1400℃) | 
| 熱膨張 @1500°C | 4.70 10-6/℃ | 
| 熱伝導率 @1200°C | 23 W/m・K | 
| 弾性率 | 240GPa | 
| 耐熱衝撃性 | 非常に良い | 
		
	






 
                    

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