炭化シリコンセラミックウェーハボート

Veteksemiシリコン炭化物セラミックウェーハボートを使用する利点

● 3000 F (1650℃) までの非常に高い耐熱性

● 酸、溶剤、塩、有機物に対する優れた耐食性、耐摩耗性  

●掃除が簡単です

● 強い耐衝撃性

● 滑りにくい

VeTek 半導体製造業界では通常、これらのウェーハを水平ウェーハ キャリアまたは垂直キャリアのいずれかで処理します。

● 水平キャリア通常「ボート」と呼ばれるこの船には、半円状に配置された 3 つまたは 4 つの水平方向のバーがあり、各バーには一定の間隔で内側に向いた溝が付いています。溝の各セットは、垂直に配置されたウェーハを搬送するための垂直空間を画定する。

● 垂直キャリア通常「垂直ラック」と呼ばれるこのラックは、半円状に配置された 3 本または 4 本の垂直に配置されたロッド (またはポスト) を備えており、各ポストには水平に配置されたウェーハを支持するためのスペースを画定するためのスロットが一定の間隔で設定されています。

このフィールドで必要な幾何学的精度を保証するために、3つまたは4つのロッドが上部プレートとボトムプレートに固定されています。 「歯」と呼ばれる各スロット間のポストの部分は、下部のプレートからの定期的な間隔と平行したウェーハをサポートするために、同じ間隔があります。次に、ラック全体を垂直炉内に配置して、ウェーハを処理します。

垂直ラックで処理されるウェーハは（水平ボートで処理されるウェーハと比較して）表面の温度勾配が小さいため、半導体メーカーはますます垂直炉に目を向けるようになっています。ただし、縦型炉にも欠点があります。従来の垂直ラックに配置されたウェーハは、外側の端でのみ支持されます。したがって、これらの歯の上に置かれているウェーハの領域は、ウェーハの他の部分よりも高い応力を受けます。

炉内の温度が約1000°Cを超えると、これらの応力はしばしば重要になり、単結晶ウェーハの一部はそのストレスに応じて結晶板に沿って互いに移動します。 「スリップ」と呼ばれるこの現象は、スリップが発生したウェーハの領域にある半導体デバイスの値を効果的に破壊します。

中国の炭化ケイ素セラミック ウェーハ ボートの大手サプライヤーおよびメーカーとして、VeTek Semiconductor は常に半導体加工業界に先進技術とウェーハ ボート製品ソリューションを提供することに尽力してきました。私たちは、お客様の中国における長期的なパートナーとなることを心から楽しみにしています。

ヴェテック・セミコンダクターシリコン炭化物セラミックウェーハボート生産ショップ：