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CVDタンタルカーバイド(TaC)コーティングサセプター
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CVDタンタルカーバイド(TaC)コーティングサセプター

VETEK CVD TaC コーティング サセプタは、高純度静水圧グラファイト基板と高密度 CVD 炭化タンタル (TaC) コーティングを組み合わせて、要求の厳しい半導体エピタキシーに優れた熱安定性、耐食性、低粒子発生を実現します。 SiC、GaN、および AlN エピタキシャル成長用に設計されており、高温 MOCVD および CVD プロセスにおける汚染を最小限に抑え、ウェーハ温度の均一性を向上させ、コンポーネントの耐用年数を延長します。

主な特長

高温安定性:長時間の高温処理条件下でも安定した性能を維持します。
耐食性: 緻密な TaC コーティングにより、腐食性プロセスガスから効果的に保護されます。
低粒子発生: 緻密なコーティング構造により、エピタキシャル成長中の汚染を軽減します。
優れた熱均一性: 均一な熱分布をサポートし、プロセスの一貫性を向上させます。
長寿命: 高い耐摩耗性により、メンテナンスの軽減と稼働サイクルの延長に貢献します。


アプリケーション

典型的なアプリケーションには次のものがあります。

・SiCエピタキシャル成長

• GaN MOCVD エピタキシー

・AlNエピタキシャル成長

• 第三世代半導体製造

• ハイパワーエレクトロニクス

• RF デバイス

• MicroLEDの製造

• 研究およびパイロット生産システム


対応機器

互換性のあるプラットフォームには次のものがあります。

•エクストロン

•LPE

•ヴィーコ

• AMEC

•ニューフレア

• カスタム CVD および MOCVD リアクター


以下もご利用いただけます:

• ウェーハキャリア

• 遊星サセプター

• バレルサセプター

• 回転ディスク

• 半月パーツ

• カバープレート

• グラファイトアセンブリ

• カスタム熱フィールドコンポーネント


技術仕様

基板材料

高純度等方性黒鉛

コーティング材

CVD 炭化タンタル (TaC)

コーティングの厚さ
20~40μm(カスタマイズ可能)
コーティングの純度
最大99.9995%
最高使用温度

>2000°C (不活性雰囲気)

密度
14.3 g/cm3
硬度
~2000香港ドル
熱膨張係数
6.3×10⁻⁶/K
電気抵抗率
1×10⁻⁵Ω・cm
利用可能なサイズ
カスタマイズされた
代表的な用途
SiC、GaN、AlN エピタキシー

よくある質問

1. CVD TaC コーティングサセプタとは何ですか?

エピタキシャル成長中にウェーハキャリアとして使用される、高密度 CVD TaC コーティングで保護された高純度グラファイトコンポーネント。

2. TaC coaを使用する理由SiCコーティングの代わりにコーティング?

TaC は、より高い耐熱性、優れた化学的安定性、およびより長い耐用年数を提供します。

3.TaC-cを使用する半導体プロセスはどれですかオーテッドサセプター?

SiC エピタキシー、GaN MOCVD、AlN エピタキシー、その他の高温結晶成長プロセス。

4。 VETEK はカスタマイズされたサセプターを製造できますか?

はい。お客様の図面とプロセス要件に基づいてカスタマイズされた設計を提供します。

5。どのリアクターのブランドがサポートされていますか?

Aixtron、LPE、Veeco、AMEC、NuFlare、その他の主流システム。


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